| 发明名称 |
METHOD FOR FABRICATING CONTACT OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050074081(A) |
申请公布日期 |
2005.07.18 |
| 申请号 |
KR20040002305 |
申请日期 |
2004.01.13 |
| 申请人 |
HYNIX SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
HWANG, CHANG YOUN;CHOI, BONG HO;KIM, JUNG GEUN |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/306;H01L21/311;H01L21/3213;H01L21/44;H01L21/4763;H01L21/60;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/28 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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