| 摘要 |
本发明系提供具有优于以往正型光阻材料之高感度及高解像度、曝光充裕度、制程适应性，曝光后之图型形状良好，特别是线边缘粗糙度小，具有优异耐蚀刻性之正型光阻材料，特别是化学增幅正型光阻材料。理想为含有有机溶剂及酸产生剂，更理想为含有溶解阻止剂或硷性化合物及／或界面活性剂。本发明系提供一种正型光阻材料，其特征为含有具有至少一种选自下述一般式(1)表示之(A)单体单位、(B)单体单位及(C)单体单位所成群所成之高分子化合物，且玻璃转化温度(Tg)为100℃以上之高分子化合物所成，093115009-p01.bmp |
