发明名称 半导体晶圆之晶片分割方法
摘要 本发明系关于一种半导体晶圆之晶片分割方法,其为,在基板上形成半导体层所成之半导体晶圆分割成多数的半导体晶片之方法者。第一之方法系包含形成在半导体晶圆之表面上,留下格子状露出部之图案之耐喷砂罩幕之步骤,及对半导体晶圆喷射微粒子喷砂材,在格子状露出部形成到达前述基板之预定深度之分割用槽沟之步骤者。第二之方法系包含在半导体晶圆之形成有半导体层侧之表面,用切片,蚀刻或喷砂法等形成槽沟宽幅相对地较狭窄的第一分割用槽沟的步骤,及在半导体晶圆之非形成半导体层侧之表面且对应于第一分割用槽沟之位置,用切片法形成槽沟宽幅相对地较宽之第二分割用槽沟之步骤者。
申请公布号 TW200529308 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW094115586 申请日期 2001.03.14
申请人 豊田合成股份有限公司 发明人 桥村昌树;佐藤孝夫;太田光一
分类号 H01L21/301 主分类号 H01L21/301
代理机构 代理人 赖经臣
主权项
地址 日本