| 发明名称 | 基板处理设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种基板处理设备，包括刻蚀区间，其特征在于，所述设备包括被布置在刻蚀区间的基板入口外的一个或多个气雾吸收装置，所述气雾吸收装置包括一个或多个喷淋管。该气雾吸收装置能够吸收来自刻蚀区间的刻蚀液气雾，从而降低该气雾对其余基板处理部件的伤害。 | ||
| 申请公布号 | CN205692805U | 申请公布日期 | 2016.11.16 |
| 申请号 | CN201620409839.5 | 申请日期 | 2016.05.09 |
| 申请人 | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 刘小宁;王世凯;金童燮;耿军;胡臻;梁渲祺;张沣;黄腾飞;潘洋;蒋中任 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 李静岚;景军平 |
| 主权项 | 一种基板处理设备，包括刻蚀区间，其特征在于，所述设备包括被布置在刻蚀区间的基板入口外的一个或多个气雾吸收装置，所述气雾吸收装置包括一个或多个喷淋管。 | ||
| 地址 | 230011 安徽省合肥市新站区胜利路88号 | ||