芳族液晶聚酯

摘要

在此提供一种具有良好膜成型性的芳族液晶聚酯。所生成的膜具有低的介电损失。此聚酯包含由下式(I)、(II)、(III)与(IV)所代表的重复单元，且重复单元(I)–(IV)之莫耳用量分别为40–74.8％、12.5–30％、12.5–30％及0.2–15％，其中重复单元(III)与(IV)之分子用量满足(III)／〔(III)＋(IV)〕≧0.5的关系。