发明名称 基板处理装置、基板处理方法及记录媒体
摘要 基板处理装置1系具备:藉由处理液来处理基板之处理槽3、及被配置于处理槽3之上方之乾燥处理部6、及使基板W于处理槽3和乾燥处理部6之间移动之移动机构8。于乾燥处理部6连接有:供给处理气体之处理气体供给管线21、及对乾燥处理部6供给惰性气体之惰性气体供给管线24、25。另外,于乾燥处理部6连接有:将由乾燥处理部6所排出之空气予以排气之第1排气管线26、及强制性地将前述乾燥处理部6加以排气之第2排气管线27。
申请公布号 TW200535920 申请公布日期 2005.11.01
申请号 TW094110513 申请日期 2005.04.01
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 户岛孝之;新藤尚树;矢野洋;鹤崎广太郎
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本