发明名称 | 基板处理装置、基板处理方法及记录媒体 | ||
摘要 | 基板处理装置1系具备:藉由处理液来处理基板之处理槽3、及被配置于处理槽3之上方之乾燥处理部6、及使基板W于处理槽3和乾燥处理部6之间移动之移动机构8。于乾燥处理部6连接有:供给处理气体之处理气体供给管线21、及对乾燥处理部6供给惰性气体之惰性气体供给管线24、25。另外,于乾燥处理部6连接有:将由乾燥处理部6所排出之空气予以排气之第1排气管线26、及强制性地将前述乾燥处理部6加以排气之第2排气管线27。 | ||
申请公布号 | TW200535920 | 申请公布日期 | 2005.11.01 |
申请号 | TW094110513 | 申请日期 | 2005.04.01 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 户岛孝之;新藤尚树;矢野洋;鹤崎广太郎 |
分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |