| 摘要 |
화학, 의료, 전자, 세라믹스, 약품, 식품, 사료 그 외의 고체/액체계 처리 재료를 제조할 때, 예비 혼련된 점도 범위가 1~100dPd·s의 저점도로부터 중점도의 점성이 있는 슬러리를 분산 매체(비즈)를 사용하지 않고 알갱이나 덩어리가 생기는 일 없이 균질하게 혼련, 분산시킬 수 있게 한 슬러리의 처리 방법 및 그 장치를 제공한다. 처리 재료의 공급구와 내방 유출구를 갖는 베슬 내에 회전체를 회전가능하게 설치한다. 베슬의 내면과 회전체의 외주면 사이에는 처리 재료가 흐르는 환상 미소 간극이 형성되어 있다. 베슬의 내방 유출구에 계속되어 배출구를 갖는 초음파실이 설치되어 있다. 초음파 혼은 내방 유출구와 배출구에 근접하게 2~5㎜의 간격을 둔 위치에 설치되어 있다. |
