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发明名称 NEGATIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING CASEIN, AND PROCESS FOR PREPARING SAME
摘要
申请公布号 KR20050116235(A) 申请公布日期 2005.12.12
申请号 KR20040041365 申请日期 2004.06.07
申请人 LUVANTIX CO., LTD.;LG MICRON CO., LTD. 发明人 OH, JUNG HYUN;KIM, KYUNG MIN;RO, BUM SUK;PARK, KWANG HO;JUNG, HYO JIN;KIM, IN HONG
分类号 G03F7/004;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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