一种积体电路结构及制造方法

摘要

根据本发明，一种积体电路包括一半导体底材上之隔离场区域。闸介电层系形成于底材表面上。闸电极系形成于闸介电层上。光阻系形成且覆盖于主动区域上。选择性地蚀刻虚拟图案。选择性地蚀刻虚拟底材，按着移除光阻。一对间隙壁系形成于沿着该闸电极与该闸介电层之相对边墙上。源极和汲极系形成于底材表面上，并且于闸极之相对边上。矽化金属形成于闸电极、源极和汲极上。随后形成一内层介电层。接着形成一接触开口及金属线路。