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经营范围
发明名称
半导体装置
摘要
提供一种对以铜为主构成材料之配线构造,抑制应力迁移所造成之空隙发生,且信赖性高之半导体装置。对于被形成在半导体基板上之多层配线构造,使成为可连接于由主构成材料为铜所构成之第1配线之上面,由下方依顺序至少叠层隔离性高且具有压缩应力之第1绝缘膜;具有拉伸应力之第2绝缘膜;和比上述第1绝缘膜和上述第2绝缘膜介电率低之第3绝缘膜,并设置导通孔(via hole)使可贯通上述第1绝缘膜、上述第2绝缘膜及上述第3绝缘膜,连接于上述第1配线的配线构造。
申请公布号
TW200601495
申请公布日期
2006.01.01
申请号
TW094113466
申请日期
2005.04.27
申请人
瑞萨科技股份有限公司
发明人
岛津广美;岩崎富生;太田裕之;石川宪辅;井上修;大岛隆文
分类号
H01L21/768
主分类号
H01L21/768
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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