发明名称 | 半导体元件与其中的多晶矽薄膜电晶体及其制造方法 | ||
摘要 | 形成于半导体底材上的一种薄膜电晶体,包括一多晶矽层、一闸极绝缘层、一氢原子供应层以及一闸极。多晶矽层形成于半导体底材上,其中多晶矽层之二侧端分别作为薄膜电晶体之源极与汲极,而该多晶矽层之部位则做为薄膜电晶体之通道。闸极绝缘层形成于多晶矽层上,氢原子供应层形成于闸极绝缘层上。其中氢原子供应层系供应氢原子至多晶矽层之通道,使该多晶矽层中之复数个未饱和键得以形成复数个氢键,以避免该等未饱和键降低通道的载体移动效能。而闸极形成于氢原子供应层上表面,且位于通道之正上方。 | ||
申请公布号 | TW200603407 | 申请公布日期 | 2006.01.16 |
申请号 | TW093120640 | 申请日期 | 2004.07.09 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 叶光兆;徐文斌 |
分类号 | H01L29/786 | 主分类号 | H01L29/786 |
代理机构 | 代理人 | 李长铭 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市科学工业园区力行二路1号 |