发明名称 | 含矽负型光阻组成物 | ||
摘要 | 本发明系有关于一种含矽负型光阻组成物,包括一占组合物重量百分比1%~80%之高分子共聚物;一占组合物重量百分比之5%~70%之反应性稀释剂;以及一占组合物重量百分比之0.1%~40%之光起始剂;其中,高分子共聚物系由如式(I)之含矽基团化合物聚合或共聚而成;R1为C1~C8之烷基或环烷基;且R2为丙烯醯(甲基)丙酯,乙烯基苯基,乙烯基,(甲基)丙烯醯,烯丙基,甲基二融环乙烯基或甲基二融环乙烯基二甲基硅烷基。093124987-p01.bmp | ||
申请公布号 | TW200608141 | 申请公布日期 | 2006.03.01 |
申请号 | TW093124987 | 申请日期 | 2004.08.19 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 林和玫;吴喜音;张丰志 |
分类号 | G03F7/038 | 主分类号 | G03F7/038 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |