发明名称 含矽负型光阻组成物
摘要 本发明系有关于一种含矽负型光阻组成物,包括一占组合物重量百分比1%~80%之高分子共聚物;一占组合物重量百分比之5%~70%之反应性稀释剂;以及一占组合物重量百分比之0.1%~40%之光起始剂;其中,高分子共聚物系由如式(I)之含矽基团化合物聚合或共聚而成;R1为C1~C8之烷基或环烷基;且R2为丙烯醯(甲基)丙酯,乙烯基苯基,乙烯基,(甲基)丙烯醯,烯丙基,甲基二融环乙烯基或甲基二融环乙烯基二甲基硅烷基。093124987-p01.bmp
申请公布号 TW200608141 申请公布日期 2006.03.01
申请号 TW093124987 申请日期 2004.08.19
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 林和玫;吴喜音;张丰志
分类号 G03F7/038 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号
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