发明名称 検査装置、及びそのフォーカス調整方法
摘要 【課題】簡素な構成で、適切にフォーカス位置を調整することができる検査装置、及びそのフォーカス調整方法を提供する。【解決手段】本発明の一態様にかかる検査装置は、EUV光を発生するEUV光源11と、EUV光を前記EUVマスクに照射するために設けられた照明光学系10と、EUVマスク60で反射したEUV光を反射する穴開き凹面鏡21及び凸面鏡22と、凸面鏡22で反射したEUV光を検出して、EUVマスクを撮像するカメラ32と、波長450nm〜650nmのAF光を発生するAF光源16と、EUVマスク60で反射したAF光を穴開き凹面鏡21、及び凸面鏡22を介して検出する第1検出器27及び第2検出器30と、検出結果に基づいて、EUVマスク60におけるEUV光のフォーカス位置を調整する処理装置31と、を備えたものである。【選択図】図1
申请公布号 JP6004126(B1) 申请公布日期 2016.10.05
申请号 JP20160039598 申请日期 2016.03.02
申请人 レーザーテック株式会社 发明人 宮井 博基;武久 究
分类号 G03F1/84;G03F1/24;G03F1/62 主分类号 G03F1/84
代理机构 代理人
主权项
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