| 发明名称 |
VORMING VAN EPITAXIALE LAAG UIT DE VLOEIBARE FASE. |
| 摘要 |
Apparatus for and methods of forming a liquid phase epitaxial growth layer on a semiconductor wafer by floating the wafer on a solution which forms the source of the epitaxial growth layer. |
| 申请公布号 |
NL7502495(A) |
申请公布日期 |
1975.09.03 |
| 申请号 |
NL19750002495 |
申请日期 |
1975.03.03 |
| 申请人 |
SONY CORPORATION (SONY KABUSHIKIKAISHA) TE TOKIO. |
发明人 |
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| 分类号 |
C30B19/06;H01L21/208;(IPC1-7):B01J17/04 |
主分类号 |
C30B19/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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