发明名称 Low Dielectric Constant Siloxane Resin Processes for Production thereof and Curable composition comprising thereof
摘要 본 발명은 저유전 특성을 갖는 실록산 수지, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 경화 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 인쇄회로기판에 사용되는 동박적층판이나 전자부품에 사용되는 밀봉재, 성형재, 주형재, 접착제, 전기절연도료용 재료 등에 요구되는 물성을 만족하면서, 저 유전특성을 균형 있게 구현할 수 있는 저유전 특성을 갖는 저유전 특성을 갖는 실록산 수지, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 경화 조성물을 제공한다.
申请公布号 KR20160117053(A) 申请公布日期 2016.10.10
申请号 KR20150045640 申请日期 2015.03.31
申请人 KOLON INDUSTRIES, INC.;KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 发明人 LEE, JE MIN;PARK, JUN HYO;GONG, WON SEOK;BAE, BYEONG SOO;KIM, YONG HO
分类号 C08G77/06;C08G77/04;C08G77/08;C08L83/04 主分类号 C08G77/06
代理机构 代理人
主权项
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