发明名称 |
Low Dielectric Constant Siloxane Resin Processes for Production thereof and Curable composition comprising thereof |
摘要 |
본 발명은 저유전 특성을 갖는 실록산 수지, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 경화 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 인쇄회로기판에 사용되는 동박적층판이나 전자부품에 사용되는 밀봉재, 성형재, 주형재, 접착제, 전기절연도료용 재료 등에 요구되는 물성을 만족하면서, 저 유전특성을 균형 있게 구현할 수 있는 저유전 특성을 갖는 저유전 특성을 갖는 실록산 수지, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 경화 조성물을 제공한다. |
申请公布号 |
KR20160117053(A) |
申请公布日期 |
2016.10.10 |
申请号 |
KR20150045640 |
申请日期 |
2015.03.31 |
申请人 |
KOLON INDUSTRIES, INC.;KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY |
发明人 |
LEE, JE MIN;PARK, JUN HYO;GONG, WON SEOK;BAE, BYEONG SOO;KIM, YONG HO |
分类号 |
C08G77/06;C08G77/04;C08G77/08;C08L83/04 |
主分类号 |
C08G77/06 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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