FAULT DETECTION USING SHOWERHEAD VOLTAGE VARIATION

摘要

플라즈마 프로세싱 시스템의 프로세싱 조건들을 검출하기 위한 방법들 및 시스템들이 제공된다. 일 방법은 RF (radio frequency) 전력 공급부로부터의 RF 전력을 플라즈마 프로세싱 시스템의 샤워헤드에 제공하는 단계 및 플라즈마 프로세싱 시스템 내에 배치된 기판 상에서 프로세스 동작을 실행하는 단계를 포함한다. 방법은 RF 전력 공급부와 샤워헤드 사이에 인라인으로 연결된 전압 프로브를 사용하여 샤워헤드의 전압을 센싱하는 단계를 더 포함한다. 전압의 센싱은 프로세스 동작의 실행 동안 전압 값들을 생성한다. 방법은 실행될 프로세스 동작을 위해 미리 규정된 전압 체크 밴드와 전압 값들을 비교하는 단계를 포함한다. 비교 단계는 전압 값들이 전압 체크 밴드의 외부에 있을 때를 검출하도록 구성된다. 방법은 또한 전압 값들이 전압 체크 밴드의 외부에 있을 때를 비교 단계가 검출할 때 경보를 생성하는 단계를 포함한다. 경보는 프로세스 동작을 위해 미리 규정되었던 전압 체크 밴드에 기초하여 결함의 타입을 식별하도록 더 구성된다.