首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS
摘要
申请公布号
JPS53145476(A)
申请公布日期
1978.12.18
申请号
JP19770060131
申请日期
1977.05.24
申请人
NIPPON ELECTRON OPTICS LAB;RIKAGAKU KENKYUSHO
发明人
GOTOU HIDEKAZU;SOUMA TAKASHI;IDESAWA MASANORI;MIYAUCHI SAKAE;TANAKA KAZUMITSU;SOMEYA TERUO
分类号
H01L21/027;H01L21/26
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
Förfarande för immobilisering av löst äggviteämne
Process for the preparation of hypoglycaemic thiazolidine dione derivatives
Supported catalyst, method for the manufacture thereof and application thereof
POSTROJENJE ZA KONTINUIRANU PROIZVODNJU PIVA
UREDJAJ ZA OPTICKU SIGNALIZACIJU NA ZADNJEM DELU VOZILA
EKOLOSKI KONTEJNER ZA ZAGADJUJUCE MATERIJE
UREDAJ ZA UNOSENJE CESTICA RETKIH ZEMELJA U KOMORU SAGOREVANJA MOTORA SA UNUTRASNJIM SAGOREVANJEM
ELEKTROHIDRAULICNA SLAGALICA
BIS(OKSI) JEDINJENJA I POSTUPAK ZA NJIHOVO DOBIJANJE
DERIVATI 1,6-NAFTIRIDINA
UREDJAJ ZA PRIJENOS PODATAKA IZMEDJU DVA POSTROJENJA ZA OBRADU PODATAKA KOJI IMAJU NEZAVISNE POGONSKE TAKTOVE
GUMENI PRSTEN ZA SPAJANJE KERAMICKIH KANALIZACIONIH CEVI
POSTUPAK I UREDJAJ ZA FORMIRANJE KALEMOVA OD METALNE ZICE
MULTIPLE AIR CONDITIONER