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发明名称 HIGH CURRENT ION IMPLANTATION IN SEMICONDUCTORS
摘要
申请公布号 GB1549971(A) 申请公布日期 1979.08.08
申请号 GB19780000570 申请日期 1978.01.06
申请人 IBM CORP 发明人
分类号 H01L29/73;G01Q70/00;H01L21/265;H01L21/3115;H01L21/331;H01L21/78;(IPC1-7):H01L21/78 主分类号 H01L29/73
代理机构 代理人
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