| 摘要 |
본 발명의 일측면에 따르면, 전자빔을 방출하는 캐소드, 상기 캐소드로부터 타측으로 이격되어 위치되며, 상기 캐소드로부터 방출된 전자빔를 가속하는 애노드, 대기압보다 낮고 일정한 압력이 인가되며 가스가 내부에 투입되어 플라즈마 환경이 형성되고, 상기 캐소드와 상기 애노드가 내부에 구비되어 전자빔이 가속되는 공간을 형성하는 저압 하우징, 상기 저압 하우징과 연통되고 상기 저압 하우징에 인가된 압력보다 높고 일정한 압력이 인가되며, 전자빔이 대기로 방출되는 방출구가 형성된 고압 하우징 및 상기 고압 하우징으로부터 방출되는 전자빔의 이동경로 상에 구비되어, 전자빔에 의해 별도의 첨가물이 용융됨으로써 상기 첨가물을 모재의 표면 상에 첨가되도록 하는 클래딩모듈을 포함하는 대기용 전자빔 클래딩 장치가 개시된다. |
