发明名称 消除聚合物沈积在反应器内表面之方法
摘要
申请公布号 TW039549 申请公布日期 1981.10.01
申请号 TW06812369 申请日期 1979.10.17
申请人 乔恩公司 发明人 路易斯柯因
分类号 C08F2/00;C08F14/06 主分类号 C08F2/00
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1﹒实质上消除聚合物沈积在聚合反应器内表面之 方 法,包含在该表面上施用含有下列通式之齐聚物 ,其pH値为约8至约13,最好为约9﹒5至 约12﹒5之硷性涂布溶液,然后使和该经涂布 处理之反应器内表面接触之单体在0℃至100 ℃,最好在40℃至70℃之温度下,进行聚合 反应: 式中R为H或OH,R'为O或C─C键 ,R"为H或Cl,R'"为0,C─C键及C─ H键,n为1至10之整数。 2﹒依第1项之方法,其中单体为氯乙烯3﹒依第1 项之方法,其中齐聚物是自行缩合的多羟基酚及 漂白剂之反应产物4﹒依第1项之方法,其中齐 聚物是自行缩合之多羟基酚和次氯酸钠之反应产 物。 5﹒依第1项之方法,其中齐聚物为自行缩合之苯间 二酚和次氯酸钠之反应产物。 6﹒依第1项之方法,其中单体混合物为氯乙烯及醋 酸乙烯酯。
地址 美国