VERFAHREN ZUR KOMPENSATION DES VERTIKALEN AUTODOPING IN CVD-SILIZIUMSCHICHTEN,申请号DD19810234680-传众专利搜索

发明名称	VERFAHREN ZUR KOMPENSATION DES VERTIKALEN AUTODOPING IN CVD-SILIZIUMSCHICHTEN
摘要
申请公布号	DD200952(A1)	申请公布日期	1983.06.22
申请号	DD19810234680	申请日期	1981.11.06
申请人	KUEHNE,HEINZ,DD;RICHTER,FRANK,DD;SCHLOTE,JUERGEN,DD;MORGENSTERN,THOMAS,DD;KARGE,INGE,DD	发明人	KUEHNE,HEINZ,DD;RICHTER,FRANK,DD;SCHLOTE,JUERGEN,DD;MORGENSTERN,THOMAS,DD;KARGE,INGE,DD
分类号	H01L21/20;H01L21/265;(IPC1-7):H01L21/20	主分类号	H01L21/20
代理机构		代理人
主权项
地址