发明名称 光辐射器
摘要
申请公布号 TW058116 申请公布日期 1984.04.16
申请号 TW07222836 申请日期 1983.05.06
申请人 森敬 发明人 森敬
分类号 F21V7/04;G02B6/00 主分类号 F21V7/04
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号白宫企业大楼一一一二室
主权项 1﹒一种光辐射器,包括:长形光线传导构件 :可传导收敛过之光线透过自其一端延伸 至另一端之光线路程;和光线辐射机构, 将光线径向朝光学路程外面辐射于包围光 辐射器之空间者。 2﹒如请求专利部份第1项之光辐射器,其中 ,光线辐射机构包括光线扩散材料,呈至 少一蜗形长条状,是由喷溅在光线传导构 件上所形成,该光线扩散材料折射率比光 线传导构件为大者。 3﹒如请求专利部份第2项之光辐射器,其中 ,蜗形长条之节距沿光线传导构件之轴线 平均者。 4﹒如请求专利部份第2项之光辐射器,其中 ,蜗形长条之节距沿轴线朝光线传导机件 另一端逐渐减少者。 5﹒如请求专利部份第1项之光辐射器,其中 ,光线辐射机构包括至少一凹沟或凹部, 形成于光传导构件之表面,以在其壁反射 光线者。 6﹒如请求专利部份第5项之光辐射器,其中 ,凹沟以蜗形沿光线传导构件之轴线延伸 者。 7﹒如请求专利部份第6项之光辐射器,其中 ,蜗形凹沟沿光线传导构件之轴线形成于 平均节距者。 8﹒如请求专利部份第6﹒项之光辐射器,其 中,蜗形凹沟形成于沿轴线朝光线传导机 件另一端逐渐减小之节距者。 9﹒如请求专利部份第6项之光辐射器,其中 ,蜗形凹沟之深度系全长平均。 10﹒如请求专利部份第6项之光辐射器,其中 ,蜗形凹沟之深度系朝光线传导构件之另 一端逐渐增加者。 11﹒如请求专利部份第五项之光辐射器,其中 ,凹沟系沿光线传导构件之周缘形成环状 者。 12﹒如请求专利部份第11﹒项之光辐射器, 其中,沿光线传导构件之轴线,在平均节 距处形成复数环形凹沟者。 13﹒如请求专利部份第l1﹒项之光辐射器, 其中,在沿轴线朝光线传导构件另一端逐 渐减小之节距处,形成复数环形凹沟者。 14﹒如请求专利部份第l1﹒项之光辐射器, 其中,复数环形凹沟在光线传导构件轴线 全长形成同样深度者。 15﹒如讲求专利部份第11﹒项之光辐射器, 其中,复数环形凹沟形成之深度,系沿轴 线朝光线传导构件之该另一端逐渐增加者 。 16﹒如请求专利部份第1项之光辐射器,又包 括末端反射器机构,可将到达光线传导构 件之该另一端的光线反射者。 17﹒如a请求专利部份第16﹒项之光辐射器 ,其中,末端反射器机构包括反射板,安 装在光线传导构件之该另一端者。 18﹒如请求专利部份第16﹒项之光辐射器, 其中,末端反射器机构包括光线传导构件 之该另一端,处理成可供反19﹒如请求 专利部份第1项之光辐射器,又包括封套 ,气密封闭光线传导构件和光线辐射机构 者。 20﹒如请求专利部份第19﹒项之光辐射器, 其中,封套系由透明材料制成者。 21﹒如请求专利部份第19﹒项之光辐射器, 其中,封套系由半透明材料制成者。
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