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Es wird ein Verfahren vorgeschlagen, das bei der elektrochemischen Regenerierung von Kupferätzlösungen Anwendung findet und der elektrochemischen Kompensation der Luftoxidation von Cu(I) dient. Die Ätzlösung wird durch eine Regenerieranlage geleitet, die eine Kathode und eine unlösliche Anode aufweist, an die eine Gleichspannung angelegt wird, so dass an der Kathode metallisches Kupfer abgeschieden wird, wahrend sich an der Anode Chlor bildet, das Kupfer(I)-chlorid zu Kupfer (II)-chlorid oxidiert. Um die Zerlegung von Wasser in gasförmigen Sauerstoff und Wasserstoffionen sin ermöglichen und auf diese Weise der Lösung neue Wasserstoffionen zuzuführen und damit einen Anstieg des pH-Wertes zu verhindern, ist die Anode von einem porösen, als Diaphragma wirkenden Material umgeben, das den Zutritt von Chlorionen an die Anode hemmt. Als poröses Material hat sich insbesondere ein Polypropylen-Filtertuch bewahrt, das in Form von Streifen auf Stoss um die Anode herumgewickelt wird.
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