发明名称 Method for inspecting surface and method for inspecting photomask using the same
摘要 본 발명의 기술적 사상에 따른 표면 검사 방법은, 빔 어레이를 형성하는 멀티빔 검사 장치의 스테이지에 검사 대상을 로딩하는 단계; 상기 빔 어레이에 포함된 복수의 빔들 각각은 복수의 빔들간의 피치(pitch)에 의해 정의되는 커버 영역을 가지고, 상기 복수의 빔들 각각의 시역(Field Of View; FOV)은 상기 커버 영역보다 작도록 설정하는 단계; 및 상기 빔 어레이를 이용하여 상기 시역에 대응하는 상기 검사 대상의 복수의 검사 지점(point)들을 스캔하는 단계;를 포함할 수 있다. 또한, 본 발명의 기술적 사상에 따른 표면 검사 방법은, 빔 어레이를 가지는 멀티빔 검사 장치의 스테이지에 검사 대상을 로딩하는 단계; 상기 검사 대상은 상기 빔 어레이와 대응하는 복수의 단위 영역들을 포함하고, 상기 검사 대상을 지지하는 상기 스테이지가 이동하는 동안 상기 빔 어레이는 상기 어느 하나의 단위 영역의 검사 지점들을 스캔하는 단계; 및 상기 어느 하나의 단위 영역의 검사 지점들로부터 다른 단위 영역의 검사 지점들로 상기 빔 어레이가 편향되는 단계;를 포함할 수 있다.
申请公布号 KR20160142655(A) 申请公布日期 2016.12.13
申请号 KR20150078666 申请日期 2015.06.03
申请人 삼성전자주식회사 发明人 나지훈;이동근;김병국;이래원
分类号 H01L21/66 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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