发明名称 [(1,3–二氧–1,3–丙烷二基)二亚胺基]双苯酸衍生物之制法
摘要
申请公布号 TW075765 申请公布日期 1986.03.16
申请号 TW074100337 申请日期 1985.01.25
申请人 槷井制药股份有限公司 发明人
分类号 C07C231/02;C07C233/15;C07C233/54 主分类号 C07C231/02
代理机构 代理人 洪武雄 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼;陈灿晖 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼
主权项 1.一种制造具有下列化学式之化合物及 其药学上可接受之盐类的方法: 式中,A和B两者均为氢,或A 和B两者之一具有下式(G)之基 另一个为R5,其中R1为可选择性 地被卤素、羟基、C1-6低级烷氧基 、C1-6低级烷撑二氧基、卤化( Cl-6 低级)烷基、氰基、硝基、单 一或二-(C1-6 低级)烷基胺基或 C1-6低级烷醯基胺基取代之单环或 叟环芳基,或为含有选自氧、氮或硫 中之一杂原子之5圜或6圜杂环基, 或为稠杂环基包含上述之杂环和苯核 ,两者可选择性地被C1-6低级烷基 取代,R4和R5 两者均为氢或者共 同形成一个化学键,R2和R2'各自 分别为氢、卤素、硝基、C1-6低级 烷基或C1-6低级烷氧基,以及R3 和R3'各自分别为羧基或其官能基衍 生物,但是,附带下列条件: a)当A和B两者为氢时,则R2和 R2'不能两者均为氢,和 b)当A和B之一为具有(G)式所 示之基,另一为R5,而且其中 之R4和R5 共同形成一个化学 键,R1为未取代芳基和R2及 R2'两者为氢时,则R2和R3' 各自分别为羧基或其官能基衍生 物,但其甲基酯除外, 本方法包括: (a)将下式化合物 [式中,R3a和R3a'各自分别 为羧基之官能基衍生物,A、B、 R2和R2'之定义如同前述]予以水 解 转变为羧基而制得下式之化合物 [式中,A、B、R2和R2'之 定义如同前述],或 (b)将下式化合物或其金属盐类 [式中,R2 、R2'、R3 和R3', 之定义如同上述] 与下式化合物 R1-CHO (Ⅱ) [式中,R1之定义如同前述]于 硷或路易士酸(Lewis aid )之 存在下予以加热 而制得下式之化合物 [式中,R1.R2.R2'、R3 和R3'之定义如同前述]或 (c)将下式化合物与氢在还原金属催化 剂之存在下还原,或者利用还原剂 还原, [式中,R1.R2.R2'、R3 和R3'之定义如同前述]而制得下 式化合物 [式中,R1. R2.R2'、R3 和R3'之定义如同前述],或 (d)将下式化合物或其羧基之活性衍生 物 [式中,A、B之定义如同前述] 与下式化合物或其氨基之活性衍生 物 [式中,R2和R3之定义如同前 述] 及下式化合物或其氨基之活性衍生 物 [式中,R2'和R3'之定义如同前 述]在缩合剂之存在下相互反应而 制得下式化合物 [式中,A、B、R2.R2'、 R3和R3'之定义如同前述], e)将下式化合物或其活性衍生物 [式中,A,B、R2 和R2'之定 义如同前述],在缩合剂之存在下 ,与适宜之醇类或其羟基之活性衍 生物反应, 而制得下式之化合物 [式中,R3b和R3b',各自分别为 酯化之羧基,A、B、R2和R2' 之定义如同前述],或 (f)将下式化合物 [式中,R1a为羟基取代之芳基, R2.R2'、R3 、R3' 、R4 和 R5之定义如同前述],在室温或 提高温度时,在硷之存在下,利用 低级烷基化剂予以低级烷基化,而 制得下式之化合物 [式中,R1b 为低级烷氧基取代之 芳基,R2.R2'、R3 、R3'、 R4和R5之定义如同前述],或 (g)将下式化合物 [式中,R1c为 咯基或 基, R2 、R2'、R3.R3'、R4和 R5 之定义如同前述],在室温或 升高温度时,在硷之存在下,利用 低级烷基化剂予以低级烷基化, 而制得下式之化合物 [式中,R1b 为N-低级烷基 咯 基或N-低级烷基 基,R2. R2'、R3.R3'、R4和R5之 定义如同前述]。2.如请求专利部份第1.(e)项所记 载之一 种制造方法,其中,系将具有下列化 学式之化合物或羧基之活性衍生物 与具有下列化学式之含羟基化合物或 其羟基之活性衍生物 R一OH [式中,R为具有2个或更多碳 原子之醇类移除羟基后之残基]在缩 合剂之存在下相互反应而制得下式之 化合物 [式中,R之定义如同前述]。3.一种制造下式化合物 之方法, 此方法包括: (i)将下式化合物或其羧基之活性衍 生物 在缩合剂之存在下与一种甲基化 剂相反应,或 (ii)将下式化合物或其金属盐类 与苯甲醛在硷或路易士酸之存在 下予以加热而制得。4.一种制造具有较高熔点之 具有下列化 学式之化合物, [式中,R'为苯基、2- 嗯 基、3- 嗯基或1-甲基-2- 咯基] 此方法包括将一种较低熔点型之上式 化合物藉研磨、挤压、振荡或磨碎施 以磨擦力处理而制得。5.一种制造具有下列化学 式化合物之方 法, [式中,R1为芳基或杂环基, 两者均可选择性地被取代,R2和 R2'各自分别为氢、卤素、硝基、低 级烷基或低级烷氧基] 此方法包括: (A)将具有下列一般化学式之化合物, [式中,R1.R2和R2'之 定义如同前述] 实施脱水反应,或 (B)将具有下列一般化学式之化合物, [式中,R2和R2'之定义如同 前述] 与具有下列一般化学式之化合物 R1-CHO [式中,R1之定义如同前述] ,在硷或路易士酸之存在下予以加热 而制得。
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