发明名称 小型雷射扫描系统
摘要
申请公布号 TW087524 申请公布日期 1987.05.16
申请号 TW075212232 申请日期 1985.05.01
申请人 艾诺坎电子工程公司 发明人 肯汶.艾德华.莫伦
分类号 B41L7/00;G02B7/18;H01S3/00 主分类号 B41L7/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1﹒雷射扫描系统包括: 产生一雷射光束之一雷射来源(21); 设置成接受并再导引雷射光束在一预定平 面中扫描之扫描装置(27);及设置成 接受扫描光束之一目标(W);特点为: 一折叠式光室(30)位于扫描装置(2 7)与目标(W)之间,折叠式光室包括 一对反射表面,二反射表面之相互配置为 使扫描光束在其自扫描装置(27)至目 标(W)之行程中被每一反射表面反射多 次,以显着增加雷射光束在扫描装置与目 标间之总有效行程长度。 2﹒根据上述请求专利部份第1项之雷射扫描 系统,在其中,折叠式光室包括安装成相 对间隔分开关系并界定该对反射表面之第 一及第二镜(31.32)。 3﹒根据上述请求专利部份第2项之雷射扫描 系统,在其中,一镜(31)具有平面形 反射表面及另一镜(32)具有凹面弯形 反射表面,以有效导使扫描雷射光束就一 瞄准平行扫描图案运动。 4﹒根据上述请求专利部份第1项之雷射扫描 系统,在其中,目标(W)位于一预定目 标平面中并具有预定长度及宽度;及在其 中,扫描系统另包括在目标平面中沿与雷 射光束之扫描路径(L)成直交延伸之行 程路径移动目标(W)之装置(40), 故在目标之移动过程中,目标之全长度及 宽度均被雷射光束扫描。 5﹒雷射表面检查系统包括: 产生一雷射光束之一雷射来源(21); 设置成接受并再导引雷射光束在一预定平 面中扫描之扫描装置(27);及设置成 接受扫描光束之具有一检查表面之一目标 (W);特点为一折叠式光室(30)位 于扫描装置(27)与目标(W)之间, 折叠式光室包括一对反射表面(31.3 2),二反射表面之相互配置为使扫描光 束在其自扫描装置(27)至目标(W) 之行程中被每一反射表面反射多次,以显 着增加雷射光束在扫描装置与目标间之总 有效行程长度;及设置成接受目标所反射 之光并目反射光决定目标之表面特性之检 波装置。 6﹒根据上述请求专利部份第5项之雷射表面 检查系统,在其中,检波装置包括一暗扬 光检波器(57)及导引目标表面所反射 之散射光进入暗场光检波器之装置。 7﹒根据上述请求专利部份第6项之雷射表面 检查系统,在其中,导引散射光进入暗场 光检波器(57)之装置包括与暗场光检 波器(57)成光学连接间接受光并导引 光进入检波器之一光管(52),及位置 邻靠检查表面并配置成使雷射扫描线与检 查表面之相交线及光管之纵轴线分别位于 其各焦点之一椭圆形镜(50),以使检 查表面沿扫描线所反射之散射光实质上全 部被导入光管。 8﹒根据上述请求专利部份第5项之雷射表面 检查系统,在其中,检波装置包括一亮场 光检波器(39)及导引来自目标之单向 反射光进入亮场光检波器之装置,亮场光 检波器之位置为使单向反射光束被导引入 折叠式光室(30)并在其自目标至亮场 光检波器之行程中被光室之每一反射表面 反射多次。 9﹒根据上述请求专利部份第8项之雷射表面 检查系统,在其中,导引单向反射光进入 亮场光检波器(39)之装置包括仅导引 单向反射光束之中央像部份进入亮场光检 波器之装置,及在其中,检波装置另包括 一近场光检波器(70)及导引包围中央 像部份之单向反射光束之其余周围部份进 入近场光检波器之装置。 10﹒根据上述请求专利部份第8项之雷射表面 检查系统,在其中,单向反射光束在检查 表面与光室间之行程路径位于与入射扫描 光束之预定平面不同之一平面中,及包括 位于入射光束与反射光束之各平面间之隔 绝反射光束与入射光束之一不透明隔板( 80)。
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