| 发明名称 |
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND SUBSTRATE SO MANUFACTURED |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
HK89087(A) |
申请公布日期 |
1987.12.04 |
| 申请号 |
HK19870000890 |
申请日期 |
1987.11.26 |
| 申请人 |
SEIKO EPSON KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
SEIICHI IWAMATSU |
| 分类号 |
C30B13/06;C30B13/16;C30B13/22;C30B29/06;H01L21/18;H01L21/20;H01L21/268;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/20 |
主分类号 |
C30B13/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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