发明名称 Apparatus for depositing Method for depositing and Apparatus for depositing passivation film
摘要 본 발명은 증착장치, 증착방법 및 보호막 증착장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 단일 챔버에서 복수의 물질층을 증착하는 증착장치, 증착방법 및 보호막 증착장치에 관한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따른 증착장치는 기판이 지지되는 기판 지지대, 상기 기판의 증착면에 대응되어 위치하며, 상기 기판을 가로지르는 제1 축 방향으로 나란히 배치되는, 제1 물질층을 증착하는 복수의 선형 원자층 증착원과 제2 물질층을 증착하는 적어도 하나의 선형 플라즈마화학기상 증착원을 포함하는 증착모듈부 및 상기 기판 지지대에 연결되어 상기 제1 축 방향과 교차하는 제2 축 방향으로 상기 기판 지지대를 왕복 운동시키는 구동부를 포함할 수 있다.
申请公布号 KR20160120491(A) 申请公布日期 2016.10.18
申请号 KR20150049591 申请日期 2015.04.08
申请人 AP SYSTEMS INC. 发明人 LEE, JAE SEUNG;KIM, SUNG RYUL
分类号 H01L51/00;H01L21/02;H01L21/314;H01L21/683 主分类号 H01L51/00
代理机构 代理人
主权项
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