| 主权项 |
1﹒制造具有高抗拉强度和高模数的聚乙稀物 件之方法,此物件是以固体,颗粒形态, 具有薄片结构的,低纠缠性和至少4X1 05的平均分子量的线性聚乙烯为基础, 该方法的特征是将该聚乙烯受照射,该被 照射过的聚乙烯在其熔点以上的温度形物 件,该物件被冷却到熔点以下,然后在提 升的温度至低于该将被延展的聚乙烯物件 之熔点之温度下分成数个步骤被延展。 2﹒根据申请专利范围第1项之方法,其特征 是该聚乙烯是受电子照射。 3﹒根据申请专利范围第1项之方法或第2项 之方法其特征是该被应用的照射剂量是1 一2OMRAD。 4﹒根据申请专利范围第1项或第2项之方法 其特征是被应用的照射剂量是2一6MR AD。 5﹒根据申请专利范围第1项或2项之方法, 其特征是被照射的聚乙烯在135℃至1 55℃之间的温度被形成物件。 6﹒根据申请专利范围第1项或第2项之方法 其特征是一种或数种的可塑剂被加入该颗 粒形能的聚乙烯内,可塑剂加入之量是以 聚乙烯为基础最多加入100%(重量比 )。 7﹒根据申请专利范围第6项之方法,其特征 是该是被使用的可塑剂是石蜡,氢化芳族 或芳香族的碳氢化合物。 8﹒根据申请专利范围第7项之方法,其特征 是被照射的聚乙烯和可塑剂的混合物在该 混合物之熔点之温度至该聚乙烯的分解温 度以下被成形。 9﹒根据申请专利范围第1项或第2项之方法 ,其特征是于第一次延展步骤时,延展是 于超过9O℃之温度下进行,而于最后一 次延展步骤时,延展是于低于155℃之 温度下进行。 10﹒根据申请专利范围第8项之方法,其特征 是于第于第一次延展步骤时,延展是于超 过9O℃之温度下进行,而于最后一次步 骤时,延展是于低于155℃之温度下进 行11﹒根据申请专利范围第1项或第2 项之方法,其特征在于此经照射之聚乙烯 被转换成纤丝状、带状、薄膜状、管状、 棒状及压型。 |
