摘要 |
SE PUEDEN DESARROLLAR CAPAS EPITAXIALES LIBRES DE DISLOCACION (43) SOBRE LAS SUPERFICIES (42) DE SUSTRATOS MONOCRISTALINOS DE RED CRISTALINA DESEQUILIBRADA (41), TAL COMO GERMANIO O ARSENURO DE GALIO SOBRE SILICIO, CON LA CONDICION DE QUE LAS SUPERFICIES SE ENCUENTREN ADECUADAMENTE MODELADAS, TAL COMO ALMENADAS O POROSAS (FIGURA 4).
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