| 摘要 |
Procédé et appareil de revêtement de substrat (41) à l'arc, commandé, utilisant des cathodes ou cibles (20) relativement épaisses, permettant d'obtenir des revêtements exempts de macroparticules. On peut utiliser les cibles épaisses (20) par commande et orientation de l'arc dans une trajectoire voulue, ce qui est nécessaire pour produire des revêtements des compositions voulues, au moyen de champs magnétiques produits pour assurer la commande et la modulation de la trajectoire de l'arc en vue d'une utilisation efficace de la cible. |
