| 主权项 |
1.下式化合物或其立体异构物; X1为氯或氟原子; X2为氢或氟原子; R1为-羟基; R2为-或-甲基; R3为氢原子或1至8个碳原子之醯 基; R4为氢原子、(C1一C5)烷基 ; R5为氢原子、(C1一C5)烷基 ; Y为CR7R8.O、S或NR9,此处 R7.R8和R9系选自氢、或含1- 8个碳原子之直链或支链烃链; R6为氢原子;甲基、苯基;至少被一卤 素原子所取代之(C1一C5烷基); 含有3-10个原子之饱和碳环系统;被 一个脂环或芳族3,4,5,6环系统 (此环系统随意被硝基或一、二或三个 直链或支链,饱和或不饱和之含有1至 18 个原子之烃链所取代)所取代之C1 烷;而 ‥为单键或双键。2.根据上述申请专利范围第1.项 所述之化合 物,其中: X1为氟或氯原子; X2为氢或氟原子; R1为-羟基; R3为乙醯基、丙醯基、丁醯基、或 戊醯基; R4/R5为氢/甲基或甲基/氢; Y为0; R6为含1-5个碳原子之烷基,而 ‥为双键。3.一种制造下式化合物或其立体异构 物之方 法: 式中: X1为氯或氟原子; X2为氢或氟原子; R1为-羟基; R2为-或-甲基; R3为氢原子或1至8个碳原子之醯 基; R4为氢原子、(C1-C5)烷基 ; R5为氢原子、(C1-C5)烷基 ; Y为CR7R8.O、S或NR9,此处 R7.R8和R9系选自氢、或含1- 8个碳原子之直链或支链烃链; R6为氢原子;甲基、苯基;至少被一卤 素原子所取代之(C1-C5烷基); 含有3-10个原子之饱和碳环系统;被 一个脂环或芳族3,4,5,6环系统 (此环系统随意被硝基或一、二或三个 直链或支链,饱和或不饱和之含有1至 18个原子之烃链所取代)所取代之C1 烷基;而 ‥为单键或双键。 其特点为: 在惰性有机溶剂中于介于0至100℃之温 度下,以下式之化合物或其盐: 和下式之化合物反应: 其中X1.X2.R1.R2.R3.R4 、R5.R6.Y和…之定义如上,而 Z为卤素原子或功能相等之基。4.根据申请专利范 围第3.项之方法,其特点 在制得根据申请专利范围第2.项之化合物 。5.药物制剂,包含根据申请专利范围第1.或 第2.项之化合物作为有效成份。6.根据申请专利范 围第5.项之药物制剂,此 制剂呈剂量单位形式。7.根据申请专利范围第5.项 之药物制剂,此 制剂包含有效成份及药物可接受之载体。8.根据 申请专利范围第1.或第2.项之化合物 ,此化合物供用作消炎药。9.下式化合物或其盐类 式中: X1为氯或氟原子; X2为氢或氟原子; R1为-羟基, R2为-或-甲基; R3为氢原子或1至8个碳原子之醯 基; ‥为双建。10.下式合物合物 |
