| 主权项 |
1﹒一液体流容纳蒸气─液体接触盘,其包括:一基部,其具入口端及出口端,及一连串互相间隔由该基部向上且横向该液体流之挡板。该基部被提供一连串各设置在该挡板间的气体允许进入孔组,该孔组被架构及安排以在液体流由该入口端前进至该出口端时逐渐降低通过该基部之蒸气流,通过该基部之蒸气流在具孔组,且为紧邻该入口端的该基部面积上时为最大。2﹒依据申请专利范围第1项所述之蒸气─液体接触盘,其中在孔组内孔的数目以接近该入口端组为最大,且对于在液体流下游方向的后续组为逐渐减小。3﹒依据申请专利范围第1项所述之蒸气─液体接触盘,其中该孔组为各形成在基部的一区域中,其为后继挡板之一隔离以提供一连串各别无孔、本质上静止的挡板间区,其相对于该液体流且在由该静止区相对之一上游的最近孔组之上累积回归流漩涡流生成物。4﹒依据申请专利范围第1项所述之蒸气一液体接触盘,其中该孔组紧邻各别的最接近上游挡板各别设置。5﹒依据申请专利范围第1项所述之蒸气一液体接触盘,其中该蒸气允许进入孔的总数被含于该孔的至少三组中,每组孔数目对置于该基部上该孔的总数为于1/2对1/3对1/6级数中,其为由最接近该入口端孔组至紧邻该出端孔组而言。6﹒依据申请专利范围第1项所述之蒸气─液体接触盘,其中各孔组的孔被以本质上平行行列且横向于流体流的方向设置。各由各孔组下游至次一各下游挡板之各基部面积为无孔的,且具大于孔行列间空间的液体流方向距离。7﹒依据申请专利范围第1项所述之蒸气─液体接触盘,其中紧接各该孔组之一的该基部无孔面积范围对各孔组而言在本质上为不少于挡板间空间的四十百分比。8﹒依据申请专利范围第1项所述之蒸气─液体接触盘,其中该基部为长方形。9﹒一蒸气─液体逆流塔结构包括:一界定一壁围墙的直立壳体,一对水平、互相垂直间隔的液体一流一容纳蒸气一液体接触盘,其设置在该塔内且附至该壁围墙上,一在该盘间提供液体互相连通的下导管结构,各接触盘包括一蒸气一液体接触盘,其具一相对于该液体流的入口端及出口端及一基部,该基部包括一连串互相间隔挡板,其中该基部向上伸且横向于该液体流,该基部被提供一连串各设置于该挡板问的蒸气允许进入孔,该孔组被架构及安置以当液体流由该入口端前进至该出口端时,在该基部上逐渐降低蒸气流,蒸气流穿过该基部,因此在该具紧邻该入口端孔之基部的面积上为最大値。该下导管结构与该机最高点之一的出口端互相连接至其余盘的入口端。10﹒依据申请专利范围第9项所述之塔结构,其中该接触盘的入口端本质上被垂直排列,该出口端亦被垂直排列,因此在该盘上供应单向流。11﹒依据申请专利范围第9项所述之塔结构,其中该最高接触盘的入口端被置于设置在其下次一接触盘出口端之上,因此,于该盘上供应交替的液体流。12﹒依据申请专利范围第9项所述之塔结构,其中各液体流容纳的蒸气─液体接触盘为长方形。13﹒一蒸气一液体回流导引接触盘,包括:一入口喉结构,一被固定至由该入口喉结构下游延伸的基部,其包括一连串互相间隔本质上平行且由该基部直立的挡板。该基部被提供一连串蒸气─液体接触孔,其紧邻该喉部结构,且设计以使约50百分比蒸气通道由其下到达该基部,挡板间基部区由各下游渐进的设置,以使孔组形成在其上以在该区上渐次渐少蒸气流,该基部区具无孔回流再循环区,其各由该孔组至次一挡板向下游地间隔,因此允许回流液体的漩涡流回归流越过各邻接孔组上由其向上游地。14﹒一用以混合蒸气流及逆流回流液体流的方法,包括步骤为:提供一蒸气─液体接触盘装置,其具一用以由该盘装置上区域接收回流液体之入口端及用以于其下分散回流的出口端,于该盘装置下提供一蒸气流源,及使该蒸气流向上通过该接触装置,其为以一方式使得该蒸气流通过该接触盘部份凝结,该盘装置极接近该入口端且因穿过该盘装置蒸气流方向为于横过盘装置回流液体流下游方向之故而较少凝结。15﹒一混合蒸气流及逆流回流液体流之方法,包括步骤为:提供一蒸气一液体接触盘装置,其具有蒸气一液体接触面积、一连串分隔该接触面积的互相间隔挡板、一用以接收由在该盘装置上区域至该挡板上流的回流液体之入口端、及一用以散布回流液体于其下之出口端;在该盘装置下提供一蒸气流源;及使该蒸气流向上穿过该接触盘,其为以一方式使得蒸气流经过盘装置的蒸气一液体接触面积而凝缩,该面积为接近该入口端且就穿过该盘装置的蒸气液体接触面积之蒸气流介于该挡板选择一者且以朝向该出口端回流液体流以向下游方向而论为逐渐较少凝缩,该塔且于塔内部接至该塔的蒸气/液体接触盘,该基部包括相对流体入口及出口装置,且该盘被提供一连串相对向上挡板元件,其向基部垂直沿伸且包括相对各外边缘,其与该蒸馏塔圆柱壁紧接且各由内边缘向上,该内边缘为垂直的共平面,存于侧相对平行平面,因此,由该入口装置提供流体平行直侧流至该出口装置,因此形成一有效地长方形蒸气/液体接触盘。图示简单说明第1图为一前进流体流的纵向垂直剖面图,第2图为结合下导管、出口堰及一回流液体均一流动于二者间及其上的本发明代表性蒸气/液体接触盘之塔架之平面图。第3图为沿第2图3─3线的垂直剖面图。第4图为一接触盘结构之概略异构图。第5图为类似于第4图,但例示说明一取代性构造,其可被用以改进一循环蒸馏。第6图为使用一对依据本发明原理的交互间隔蒸汽液体接触盘之概略侧视图。第7图类似于第6图,但指出发明为被用于一单向流系统,其中横过接触盘上回流液体流对于在塔内所有盘为相同方向。第8及9图各为可被用于如本发明第6及7图接触盘一型式的顶视及侧视图。第10及11图为类似于第8及9图,但代表一可被使用的替代板,其中孔大小被减小但每内挡板区的孔数目被实质地增加。第12图为大略图其说明第8及9图的接触盘之泛滥及倾流曲线。第13图为一概略图,其关于第8及9图接触盘的操作。第14图为第10及11图中板的泛滥及倾流曲线的概图。第15图为第10及11图中接触盘操作特性的略图。第16及17图各为用于气一水流模拟检验习知接触盘的顶视概略图及侧视图,第18图为一略图,其例示说明第16图接触盘的泛滥及倾流曲线。第19图为一略图,其显示第16及17图习知接触盘的操作特性。 |
