| 主权项 |
1.一种用于传送一单一辐射光束之光学装置,其构成包含一锁相二极体雷射阵列和一个准直仪透镜,让雷射阵列以最高阶超模式辐射两个远场波瓣,于一侧向平面通过辐射对称轴并与雷射阵列之pn接面层平行,其特征为在准直仪透镜后面,按以下顺序,在其中一个侧向波瓣路径中安置一个极化回转机以及在两个侧向远场波瓣之路径中安置一个极化敏感之光束组合器。2.根据申请专利范围第1项所述之光学装置,其中光束组合器是一个Wollaston棱镜,而且在极化回转机与Wollaston棱镜之间安装一个合成光束偏向器以引导两个波瓣之辐射轴在Wollaston棱镜相交。3.根据申请专利范围第2项所述之光学装置,其中该合成之光束偏向器是一种变光换。4.根据申请专利范围第2或3项所述之光学装置,其中Wollaston棱镜包含三个前后安装之双折射材料之分量棱镜,其中两个外边的分量棱镜具有相同的光轴以及实质上相同的形状和尺寸,而中央分量棱镜具有不同的形状和不同的尺寸以及垂直于两外围分量棱镜光轴之光轴。5.根据申请专利范围第1项所述之光学装置,其中极化敏感之光束组合器包含相互平行之第一及第二双折射板,该等板子之光轴具有不同的方向,每个与板面成45度而且相互交叉。6.根据申请专利范围第5项所述之光学装置,其中光束偏向器系安置在准直仪与第一双折射板之间。7.根据申请专利范围第5或6项所述之光学装置,其中在第一与第二双折射板之间安装一个/2板,其中二极体雷射辐射之波长。8.根据申请专利范围第1.2.3.5或6项所述之光学装置,其中在极化敏感光束组合器后面按顺序安置一棱镜系统及一空间滤波器,该棱镜系统具有至少一个棱镜,在其侧向平面有一对入射辐射之轴倾斜之进口面以及一出口面垂直于射出辐射之轴,而该空间滤波器系在二极体雷射阵列之侧向远场中。9.一种用于以光学记录光学记录载体之装具,其构成含有一用于产生一辐射光点之光学头,光点之强度系依据待记录之资讯来调变,其中该光学头包含前述申请专利范围第1.2.3.5或6项所述之光学装置以及一接物透镜用以将来自该装置之光束聚焦成一绕射极限圆点于记录载体上。10.一种用以读取一记录载体之装具其构成包含一光学头,于其中产生一辐射点以扫描记录载体,其中该光学头含有根据申请专利范围第1.2.3.5或6项所述之光学装置以及一接物透镜,自该装置将光束聚焦成绕射极限点于记录载体上。11.一种用以在记录媒体上以雷射印制资讯之装具,其构成包含一可在第一方向移动之记录媒体之载体以及沿着垂直于第一方向之第二方向扫描一辐射光束之光束偏向器,其中其构成含有一个根据申请专利范围第1.2.3.5或6项所述之光学装置以产生一实质上轴线规正之光束,由接物透镜聚焦成绕射极限辐射点于记录媒体上。12.根据申请专利范围第8项所述之装置,其中光学装置之空间滤波器系由设置于棱镜系统后方之物镜的进入瞳孔组成。图示简单说明:图1以透视图,显示一个半导体二极体雷射阵列,图2a,2b,2c和2d分别表示两发射体二极体雷射之近场强度和相位分布以及远场强度和相位分布,图3a和3b分别显示在侧向与横向切面中本发明光学装置之第一个实施例,图4例示通过此实施例中所用之Wollaston棱镜之射线路径,图5a和5b相分别表示在侧向及横向切面中该装置之第二个具体实例,图5c表示一修正之Savart板,可用于此第二具体实例中,图6a和6b显示具有一个棱镜系统和一个空间滤波器之装置之具体实例之第一修正,图7a和7b表示此实例之第二修正,图8a和8b表示此实例之第三修正,图9表示一用以记录一包含本发明装置之光学记录载体之装具,以及图10显示一包含此装置之雷射印制机。 |
