| 主权项 |
1.在基板上供制造透明层用之涂料溶液,其基本上含有一种矽酸酯、一种作为溶剂之脂族醇及一种触媒活性量之酸与水,其中醇具有至少4个碳原子且酸具有小于+3之pKa値。2.根据申请专利范围第1项之涂料溶液,其中矽酸酯为四院氧矽烷、四(烷氧烷氧基)矽烷及/或聚(烷氧矽氧烷)。3.根据申请专利范围第2项之涂料溶液,其中聚(烷氧矽氧烷)系经预水解。4.根据申请专利范围第1至3项中任一项之涂料溶液,其中在涂料溶液内之矽酸酯含量,参照该涂料溶液,为2至50重量%,特别是5至25重量%。5.根据申请专利范围第1项之涂料溶液,其中之溶剂为含有至少50重量%醇之溶剂。6.根据申请专利范围第1或5项之涂料溶液,其中之醇为一种单羟醇或一种多羟醇,特别是二羟醇,经部份醚化者或一种经寡聚合醚化醇,特别是一种二聚醇或三聚醇。7.根据申请专利范围第1项之涂料溶液,其中酸之pKa値系在+2至-6之范围内。8.根据申请专利范围第1或7项之涂料溶液,其中之酸为一种有机酸。9.根据申请专利范围第1项之涂料溶液,其中之水,参照完全水解可水解基团所必须之量,系以90至200%之量存在。10.在基板上以根据申请专利范围第1项之涂料溶液制造无"条痕"涂层之方法,其包括制造一种含有该矽酸酯、该溶剂、水及该酸之均匀混合物,于0至120℃,较佳为20至80℃之温度下聚缩合该矽酸酯,接着于一基板上沈积此涂料溶液并热处理之。11.制造根据申请专利范围第10项涂层之方法,其中系将一光阻层以本身已知之方式沈积于该经热处理过之透明层上。12.根据申请专利范围第10或11项之方法,其中基板为金属、金属氧化物或聚合体层,特别是半导体基板或液晶显示板。13.根据申请专利范围第10项之方法,其中涂层于热处理后系具有厚度为200nm(+亿分之一米)至5.0m(微米),特别是50nm至2.0m。 |
