| 主权项 |
l.一种用以分配多流体成分之装置,包含具有多数室之一本体,每一室具有一相关口,该本体具有一颈、一喷嘴,此喷嘴具有一底部,而此底部有大致为圆桂形之密封表面,用以密封地接合该颈之一部分,并有一侧表面用以密封地接合该等口、以不旋转方式使该底部移动而与该等口密封接合与分离之阀装置、及于各成分自该等口进入该喷嘴中至一相当距离后,用以维持该等成份分离之机构。2.依申请专利范围第1项之用以分配多流体成分之装置,其中用以维持该等成份分离之该机构为形成于该颈上之一分隔件与该喷嘴中之一沟槽,让分隔件之形状使其适于配合于该沟槽中。3.依申请专利范围第1项之用以分配多流体成分之装置,其中用以维持该等成装置不使用时用以替换该喷嘴之封闭机构。4.依申请专利范围第2项之用以分配多流体成分之装置,其中该装置包括于该装置不使用时用以替换该喷嘴之封闭机构具有一沟槽,用以罩住该分隔件。5.依申请专利范围第1项之用以分配多流体成分之装置,其中该装置包括放置于该颈外周缘周围与该喷嘴底部内周缘周围之一密封件。6.依申请专利范围第1项之用以分配多流体成分之装置,其中该等口具弧形,且该喷嘴之该底部具有一对表面可轴向移动至将该等口封闭之位置。7.依申请专利范围第1项之用以分配多流体成分之装置,其中该装置包括用以限制该喷嘴与该颈相对旋转之机构。8.一种多流体成分分配装置,包含具有多数室之一本体,每一室具有一相关口,让本体具有一颈、一喷嘴、此喷嘴具有一底部,而此底部有一大致为圆柱形之密封表面,用以密封地接合该颈之各周缘部分,且有一侧边密封表面,用以密封地接合该颈之各末端部分,在轴向中与该喷嘴干涉并可绕该喷嘴旋转之一调整螺帽,用以限制该喷嘴与该颈之相对旋转但容许其相对轴向运动之机构。9.依申请专利范围第8项之多流体成分分配装置,其中用以防止旋转之该机构为形成于该颈上之一分隔件与该喷嘴中之一沟槽,让分隔件之形状使其可配人于该沟槽中10.依申请专利范围第8项之多流体成分分配装置,其中该装置更包含于该装置不使用时用以替换该喷嘴之封闭机构。11.依申请专利范围第9项之多流体成分分配装置,其中该装置更包含该装置不使用时时用以替换该喷嘴之封闭机构,让封闭机构具有用以罩住该分隔件之一沟槽。12.依申请专利范围第8项之多流体成分分配装置,其中该装置包括放置于该颈周围之一O形环,该O形环以密封方式接合该颈与该喷嘴。13.依申请专利范围第8项之多流体成分分配装置,其中该等口之横截面为弧形,且该喷嘴之该底部具有一对表面可轴向移动至封闭该等口之位置。14.依申请专利范围第8项之多流体成分分配装置,其中该装置包括于各成份自该等口进入该喷嘴口至一相当距离后用以维持该等成份分离之分隔机构。15.一种用以分配多流体成份之装置,包含具有多数室之一本体,每一室具有一相关口,该本体具有一颈与一喷嘴,此喷嘴之底部的形状使其密封地接合该颈之一部分,在轴向中与该喷嘴干涉并可绕该喷嘴旋转之一调整螺帽,用以防止让颈相对旋转之机构,及于各成份自该筑口进入该喷嘴中至一相当距离后,用以维持该等成份分离之机构。16.依申请专利范围第15项之用以分配多流体成分之装置,其中用以防止让颈与喷嘴相对旋转之该构和用以维持该等成份分离之该机构包含该颈与喷嘴上之各配合构造,该等构造容许该颈与喷嘴之相对轴向运动。17.依申请专利范围第16项之用以分配多流体成分之装置,其中该等构造包含形成于该颈上之一分隔件与形成于该喷嘴中之一沟槽。18.依申请专利范围第15项之用以分配多流体成分之装置,其中该颈具有各外螺纹且该调整螺帽具有密封地接合该颈之各内螺纹,让喷嘴之该底部具有至少一肋与该螺帽接合,让螺帽可绕该颈旋转,使该喷嘴产生不旋转之轴向运动,让喷嘴可移动至使该底部之一部分实质上封闭该等口之第一位置与使该等成份可经由该等口且经由该喷嘴自由流动之一第二位置。19.依申请专利范围第17项之用以分配多流体成分之装置,其中该装置包括于该装置不使用时,其形状使其适合替换该喷嘴之一封闭件,让封闭件具有一沟槽用以接纳该分隔件,让封闭件具有多数突起,其形状使其于安装在该装置上时适于配合该等口。20.依申请专利范围第15项之用以分配多流体成分之装置,其中该喷嘴具有形成于该底部各内部分上之三个分开之密封表面,轴向设置并为圆柱形之一第一密封表面于该装置打开且于该装置闭合时用以密封该喷嘴与该颈间之界面,一对侧方密封表面于该喷嘴在该等室之方向中移动时,用以实质上封闭该等口。图示简单说明:图1为一横剖面图。图2为类似于图1之横剖面图。图3为图1中所示装置之一部分剖视图。图4为沿图1中4-4线所取之一剖视图。图5为可使用于本发明装置之一帽的剖视图。 |
