藉反应性喷镀形成之透明涂层

摘要

本发明系揭示一种铝与矽之合金在反应性气体中进行阴极喷镀以沉积保护涂层之方法。喷镀靶含有足够的矽以产生非晶质涂层；较佳为含 6 至18％矽。含约88％铝与12％矽之靶为特佳。氧、氮、氧化合物与氮化合物为较佳之反应气体。广范围并用氧与氮者为特佳。本方法提供之持久透明涂层可作为金属顶涂层或介电涂层使用，以提供对于磨损与腐蚀之增加的耐力。特别地，此保謢涂层可为一种金属涂层、介电涂层或介电、金属、介电涂层，例如使用于建筑物或车辆之双层玻璃窗组件中者。

主权项

1.一种在基板上沉积涂层与保护性顶涂层之方法,其包括:在基板上沈积一涂层;制备一个包含铝与足量矽之合金喷镀靶以制造非晶质顶涂层:将此靶与经涂布基板放在真空室中;及在含有系选自包括氧,氮、氧之气体化合物、氯之气体化合物,此等气体之混合物及此等气体与其他气体(例如,四氟化碳)之混合物之气体之大气中喷锂该靶以形成含有铝与矽反应产物之透明非晶质顶涂层。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中合金系包括大于约6%及小于约95%矽。3.根据申请专利范围第2项之方法,其中基板为透明且沉积涂层之步骤系包括藉喷镀而沉积一介电一金属一介电涂层。4.一种在基板上沈积透明涂层之方法,其包括:制备一个含有铝与6至18%矽之合金喷镀靶:将此靶与基板放在真空室中;在含有系选自包括氧,氮、氧之气体化合物、氯之气体化合物;此等气体之混合物及此等气体与其他气体(例如,四氟化碳)之混合物之气体之大气中喷镀该靶以形成含有铝与矽反应产物之非晶质涂层。5.根据申请专利范围第4项之方法,其中合金系包括82至90℃铝与10至14%矽。6.根据申请专利范围第5项之方法;其中合金系包括拍88%铝与12%矽及伴随的不纯物。7.根据申请利范围第4项之方法,其中反应性气瞪系包括氧与氦,且氧对氧与氮种量之比系在0.1至0.3范围内。8.根据申请专利范围第7项之方法,其中合金系包括82至90%铝与10至14%矽。9.根据申请专利范围第8项之方法,其中合金系包括约88%铝与12℃矽及伴随的不纯物。10.一种经涂布之物件,其包括基板、基板上之涂层、及涂层上之保护性顶涂层,其中顶涂层系包括在系选自包括氧,氦、氧之气瞪化合物、欢之气体化合物、此等气体之混物此等气体与其他气体(例如,四旗化碳)之混合物之反应性气体中藉喷镀一块靶而形成反应产物之;[晶质踬,其中该靶为含有铝与矽之合益。11.根据申请专利范围第10项之经涂布物件,其中合金系包含6至95%矽。12.根据申请专利范围第11项之经涂布物件,其中基板为透明,该涂层包括多层介赁一金构一介电涂层。该介电层之材料系选自包括铋、锢、锡、拭及锌之氧化物。13.根据申请专利范围第11项之经涂布物件,其中该涂层为介电一金属一氧化锌。14.根据申请专利范围第13项之经涂布物件,其中反应性气体系包含氧与氮且氧对氧与氦糖量之比系在0.1至0.3范围内。15.根据申请专利范围第11项之经涂布物件,其中反应性气体系包含氧与氦且氧对氧与氦捡量之比系在0.1至0.3范围内。16.根据申请专利范围第15项之经涂布物件,其中该涂层为介电一银涂层。17.一种经涂布物件,其包括一基板与一非晶赁涂层,后者系在系选自包括氧,氦、氧之气体化合物、氦之气体化合物,此等气体之混物及此等气体与其他气体(例如,四氟化碳)之混合物之反应性气体中藉喷镀一种包含铝与6至18%矽之合金靶所形成之反应产物制成。18.根据申请专利范围第17项之经涂布物件,其中反应性气体系包含氧与氦且氧对氧与氯检量之比系在0.1至0.3范围内。19.根据申请专利范围第18项之经涂布物件,其中基板系包括一益明底材及一介电一金属涂屠,涂层上沈积非晶质涂层。20.根据申请专利范围第18项之物件,其中基板系包括一透明底材及一介电一金属一氧化锌涂层,涂层上沈积非晶质涂层。21.根句申请专利范围第20项之经涂布物件,其中合金购含有约88%铝与12%矽及伴随的不纯物。22.根据申请专利范围第21项之经涂布物件,进一步包括一透明薄板,以及密封此薄板与其底材之方法以形成具有非晶质涂层于内部之奖层玻璃窗组件。