| 主权项 |
1﹒一种合成结晶分子筛组合物,此组合物包含至少70重量%(以结晶相重量计)之具有表lAx─射线绕射线之晶体物料其中该物料之晶体骨架具有下列组成:(x02)1─Y:(Y02)1─X:(Z02)X+Y其中X为+3价元素,Y为+5价元素,Z为+4价元素,且X与Y各大于─1而小于+1。2﹒根据申请专利范围第1项之组合物,其中该物料具有利于表IB中之x─射线绕射线。3﹒根据申请专利范围第1项之组合物,其中x与y满足下列进一步关系(i)若大为0,则y不为0,(ii)若y为0,则x不为0,及(iii)x+y大于0﹒001而小于1。4﹒根据申请专利范围第3项之组合物,其中X为铝,Y为磷及Z为矽。5﹒一种制造申请专利范围第1项组合物之方法,包含提供含有水,元素X,Y与Z之氧化物来源,有机指示剂D,无机阳离子M及阴离子N且具下列莫耳关系之反应混合物(D)a:(m2O)b:(X203)c:(ZO2)d:(Y2O5)c(溶剂)f:(N)g:(H2O)h其中a/(d+2c+2e)至多为0﹒2d/(d+2c+2e)为0﹒2至0﹒4以及将该混合物加热至温度为130─155c4─20小时之步骤。6﹒根据申请专利范围第5项之方法,其中该混合物遵守下列附加关系:a/(d+2c+2e)为0﹒05至0﹒2,b/(c+d+e)/)小于2,Ce,g/(c+d+e)小于2,且h/(c+d+c)为3至150,7﹒根据申请专利范围第5项之方法,其中该指示剂为二丙基胺且上述温度为135─155C。8﹒根据申请专利范围第5项之方法,其中该指示剂为四丙铵化合物且上述温度为130─145℃。9﹒根据申请专利范围第5项之方法,其中该混合物之起始pH値为4─6。10﹒根据申请专利范围第9项之方法,其中该混合物之取终PH値为6─7。11﹒根据申请专利范围第5项之方法,其中该混合物包含一水相与一有机相,至少一种该氧化物系分散或溶解于该有机相中,并且于加热步骤中搅动混合物以使此二相混合。 |
