| 摘要 |
기판의 폴리싱장치가 제공된다. 상기 장치는, 폴리싱패드가 부착되는 회전가능한 폴리싱테이블; 상기 기판을 폴리싱하기 위하여, 상기 기판을 홀딩하면서, 상기 기판을 회전하는 상기 폴리싱테이블 상의 폴리싱패드의 폴리싱면에 대하여 가압하도록 구성된 기판홀더; 상기 폴리싱패드의 폴리싱면의 온도를 측정하도록 구성된 패드온도검출기; 상기 폴리싱면의 온도를 조절하기 위하여 상기 폴리싱면과 접촉하도록 구성된 패드온도조절기; 및 상기 패드온도검출기에 의해 검출된 폴리싱면의 온도에 관한 정보를 토대로, 상기 패드온도조절기를 제어하여 상기 폴리싱면의 온도를 제어하도록 구성된 온도제어기를 포함한다. |
