| 主权项 |
1.一种装置,用以在包括将一待予电镀之物体连续浸没于不同液体内之电镀过程中,自一在该物体上具有预定深度之室虹吸液体者,包含:一管状构件有第一及第二支管由一弯曲部份所连接,第二支管自弯曲部份伸至一开口端对第一支管成一小于 180之角,第一支管自弯曲部份伸至一开口端至少与该室深度同样大之距离,以供将第一支管之开口端置于靠近该室底部;第二支管自弯曲部份伸至一开口端距离大于第一支管,以供于第一支管配置于该室内时向下伸延低于第一支管之开口端一预定距离;第二支管低于第一支管开口 之预定距离系予决定为供在取出该物体且第二支管之开口端高于液体水平面时经由第一支管之开口端自该室虹吸液体者。2.如申请专利范围第1项之装置,其中第一支管之开口端具有不规则构形,以使液体在第一支管之开口端贴接该室底部时可自该室流入该管状构件者。3.如申请专利范围第1项之装置,其中上述物体为一圆盘刹车支承构件,以及其中上述室为一在该支承构件上之盲孔者。4.如申请专利范围第1项之装置,其中该管状构件系由一种不导电材料所构成者。5.如申请专利范围第1项之装置,其中该管状构件系由一种金属材料所构成,并且另包含一种绝缘材料在将予电镀之物体与管状构件之间包围至少管状构件之一部份,以防止该物体与管状构件金属间之电接触者。6.如申请专利范围第1项之装置,其中该管状构件系以类型为予以电镀至该物体之金属所构成者。7.如申请专利范围第1项之装置,其中该管状构件系一弯曲为形成实际彼此平行之第一及第二支管之单件者。8.如申请专利范围第1项之装置,其中第一支管开口端之不规则构形包含在上述 上之多个轴向伸延凹口者。9.如申请专利范围第1项之装置,其中上述管状构件为不可经历电双极性者。10. 如申请专利范围第1项之装置,其中弯曲部与第二支管末 间之距离为长于该弯曲部与短支管末间之距推一倍半者。11. 一种将一予以电镀之物体浸没至一容器内之液体中及自其取出以供自该物体上之一室虹吸液体之方法,包含下列步骤:提供一管状构件,此构件有一开口端之短支管及一有开口端之长支管,二支管在一弯曲部份连接;将短支管插入该室并使管状构件位于致使长支管之开口端在该室外面伸延低于短支管之开口端;于第一支管插入该室时将第二支管之开口,端浸没于液体中;继续浸没该物体直到第一支管及该物体包括该室浸没于液体中;以及将该物体抬高直到长支管之开口端高于液体水平面,以允许液体自该室流出短支管并流出长支管进入该容器者。12. 如申请专利范围第11项之方法,另包含在包括正予电镀之物体、容器中之液及管状构件之路径上引导电流之步骤者。13﹒如申请专利范围第11项之装置,其中浸没第一支管及物体之步骤包括引入及压缩在管状构件弯曲部之空气者。图示简单说明:图1为剖面图,图2为供该正予电铵物体用之一种代表性处理槽之剖面图;图3为该虹吸管部份浸没于液体中之图;图4为该虹吸管完全浸没于液体中之图;图5为该虹吸管自处理槽完全抽出之图;图6为剖面图,图7为图6中所示虹吸管之片断图 |
