发明名称 移除砂砾之装置
摘要 具有一上沉淀室及一下砂砾贮存室之砂砾选择器。该沉淀室与该砂砾贮存室藉一开口相通,此开口乃位在介于沉淀室及砂砾贮存室间之一过渡表面上。一进水沟将流入的液体直接导流进入该沉淀室之一下方部份,而一排放沟则将放出的液体从沉淀室之一上方部位排放出。该进水沟及排放沟具有一共同中心,而该排放沟系设置于该进水沟上方一高度。一阻挡构件伸延进入沉淀室中,俾将流入之液体流朝外导流至沉淀室周缘之一下方部份。
申请公布号 TW154066 申请公布日期 1991.03.11
申请号 TW079210047 申请日期 1988.06.17
申请人 史密斯及罗芙里斯公司 发明人 法兰克.吉.威斯
分类号 B07B1/00 主分类号 B07B1/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1﹒一种用以将砂砾自一液流中分离出,同时将有机固体留置其中之装置,包含:一圆筒形沉淀室;一圆柱形砂砾贮存室,其具有一较该沉淀室直径为小之直径,并被安装于该沉淀室之紧瞵下方;一将该沉淀室及该贮存室分开之过渡表面,该过渡表面具有一贯通、安置于中心之开口,使得该沉淀室及该贮存室相通;一进水沟,俾将一进入液流沿该沉淀室之外侧周缘导流进入其下方部份;一排放沟,俾将一排放液流沿该沉淀室之外侧周缘自其上方部份移除,该排放沟与该进水沟间隔一距离,此距离系至少与位在液流方向上该沉淀室周长之一实质部份相等;置于该沉淀室中之一阻档装置,用以将进入该沉淀室中之进入液流朝外导引至该沉淀室周缘之一下方部份,并防止其横越该过渡表面散布;及安装在该沉淀室中,位在该过渡表面上方之螺旋浆装置,其环绕一实质垂直轴线旋转,该轴线乃位于在该沉淀室内之液流方向上,该螺旋浆装置以一足够速率旋转,促使一径向液流型式以一增加之速率横越该过渡表面,进而使较重微粒通过该开口进入该砂砾贮存室,而较轻微粒则被提升至该沉淀室之一中央部份内。2﹒根据申请专利范围第1项之装置,其中该进水沟系位于该排放沟下方。3﹒根据申请专利范围第1项之装置,其中该进水沟系概与该排放沟相平行,且同时具有一共同中心线。4﹒根据申请专利范围第1项之装置,其中该进水沟具有一直立外侧壁,此外侧壁实质上呈切线方向与该沉淀室之一下方部份相交,俾将一进水液流以切线方向导入该沉淀室内。5﹒根据申请专利范围第1项之装置,其中该排放沟具有一底板部份,其乃伸延进入该沉淀室中之一中间部份,此中间部份毗邻该排放沟之部份周缘。6﹒根据申请专利范围第1项之装置,其中该阻档装置伸延进入该沉淀室之一平面,此平面实质上系与该进水沟一内侧壁之一平面相同。7﹒根据申请专利范围第6项之装置,其中该阻档装置自该过渡表面向上伸延一距离,此距离系大约为以最大流量流通该进水沟之液体高度之百分之廿五。8﹒根据申请专利范围第6项所述之装置,其中该阻档装置伸延进入该沉淀室一距离,使得介于该沉淀室中心轴线至其各别末端之假想线间之夹角大约为六十度。9﹒根据申请专利范围第1项所述之装置,其中该进入液流在进入该排放沟成为排放流之前在该沉淀室中行进一大约360℃之距离。10﹒根据申请专利范围第1项所述之装置,其中该螺旋浆装置系安装在经过该开口朝下伸延进入该砂砾贮存室内之一实质垂直轴上,该轴在其下端处具有一螺旋状梯装置,使得沉淀之微粒不致塞满于该砂砾贮存室之底部。图示简单说明图1系一部份切除之透视图,显示依据本创作构筑之砂砾移除装置;图2系本创作沉淀室之一透视示意图,显示其中之液流图案;图3系图1所示砂砾分离器之一顶视平面图;图4系沿图3中之4一4线所截取之一剖面图;图5系沿图3中之5一5线所截取之一剖面图。
地址 美国
您可能感兴趣的专利