| 主权项 |
1﹒一种包括具有至少C2之全氟烯氧基单元的过氧全氟聚醚之制法,其特征为,除四氟乙烯单独使用外,一至四全氟烯烃类,在液相内与氧,于不超过50℃的温度,在具有一或二F一X键(其中X系选自包含5F,O和C1组群)的化合物存在下反应,而该化合物系选自包含:(1)F2;(2)R5-OF,其中R5为全氟烷基(含氟原子,或含氟原子和1-5氯原子),并含1-3碳原子;其中:D代表F或CF3;t为零或1;R6为全氟烷基,或含氟原子和-氯原子并含1-3碳原子之全卤烷基;R7代表一或以上全氟烷撑基,彼此相同或不同,选自-CF2-,-CF2-CF2和-CF2-CF-,而n在0—50范围;有不同(R7O)单元存在时,此等单元沿链随机分布;其中,R8为F原子,或全卤烷基(含F原子或F原子及1-3Cl原子),并含1-3碳原子;R9为F,R8或全氟烷基单醚或全氟烷基聚醚R6-o—(R7o)n-CF2-,其中R6,R7和n同上;(5)FO-(R7O)s-F其中,R7同上,而s値在1-3之间,惟R7等于-CF2-时,s値大于1(6)FO-(CF2)v-OF,其中,V値在3-5范围;(7)氟化氧;(8)氟化氯。2﹒如申请专利范围第1项之制法,其中,全氟烯烃系选自包含:(a)除C2F4单独使用外,一或二全氟单烯烃类,(b)全氟二烯烃,(c)全氟二烯烃与一或二全氟单烯烃类组合,(d)一或二全氟单烯烃类与一或二全氟乙烯基酸类组合者。3﹒如申请专利范围第2项之制法,其中,全氟单烯烃类系选自包含六氟丙烯,以及六氟丙烯与四氟乙烯混合者。4﹒如申请专利范围第2或3项之制法,其中,全氟二烯烃为全氟丁二烯者。5﹒如申请专利范围第2或3项之制法,其中,全氟乙烯基醚类相当于下式:其中,R2为(R3O)mR4或R4;R3系选自包含-CF2-,-CFR4系选自CF3-,C2F5-,正C3F7-,异C3F7,正C4F9-,异C4F9—,和特C4F9-基,而m在1-3范围者。6﹒如申请专利范围第1项之制法,其中,在溶剂和/或一至四全氟烯烃类组成之液相内,如氧气流,具有一或二F-X键之化合物气流或液流,以及视需要之一至四全氟烯烃类组成的液流,后者如约存在,如液相在反应开始之前不含全氟烯烃类者。7﹒如申请专利范围第1项之制法,其中,在溶剂和/或一至四全氟烯烃类所组成,并含具有一或二F-X键之化合物的液相内,如氧气流,和视需要之一至四全氟烯烃组成的气流或液相,后者始终存在,如液相在反应开始之前不含全氟烯烃类者。8﹒如申请专利范围第6或7项之制法,其中,液相内亦加惰性气体者。9﹒如申请专利范围第1.6或7项之制法,其中,温度在-120℃+50℃范围者。10﹒如申请专利范围第9项之制法,其中,温度在-100℃+20℃范围者。11﹒如申请专利范围第10项之制法,其中,温度在-100℃+0℃范围者。12﹒如申请专利范围第6或7项之制法,其中,溶剂系选自包含直链和环型含氟烃、含氯氟烃、全氟胺类、和全氟醚类者。13﹒如申请专利范围第1.6或7项之制法,其中,反应器内的氧分压为0﹒01-10大气压者。14﹒如申请专利范围第13项之制法,其中,反应器内的氧分压为0﹒05-1大气压者。15﹒如申请专利范围第1.6或7项之制法,其中,进行反应之总压大约1-10绝对大气压范围者。16﹒如申请专利范围第6项之制法,其中,其有一或二F-X键之化合物气流或液流给入液相内,该化合物之流量系每小时每公升液相0﹒001-5莫耳者。﹒17﹒如申请专利范围第16项之制法,其中,具有一或二F-X键之化合物流量,系每小时每公升液相0﹒01-2莫耳者。18﹒如申请专利范围第7项之制法,其中,若液相在反应开始之前已含具有一或二F-X键之化合物,则莫耳比;具有一或以上F─X键之化合物比全体引进之全氟烯烃类在0﹒01-0﹒1范围者。19﹒如申请专利范围第8项之制法,其中,惰性气体系选自包含氮、氩、氦、CF和C2F6组群者。20﹒如申请专利范围第1.6或7项之制法,其中,反应是在紫外线辐射存在下进行者。21﹒过氧全氟聚醚类,包括全氟烯氧基单元,具有至少二碳原子,系由申请专利范围第1.6﹒或7项所述制法制成者。 |
