| 主权项 |
1﹒一种铁电液晶装置包含一透明基底,一相对基底,该等基底配置供铁电液晶物质之非螺旋形排列,一种铁电液晶物质配置于该等基底与该等基底上的电极间以界定一项或多项像素,每一该像素展现控制的连续可变光透射为外施场之函数,且其中液晶物质的分子取向能不断变化及控制。2﹒根据申请专利范围第1项之装置其中该装匮展现电容随偏移电咫之变动而更改。3﹒根据申请专利范围第1项之奖置其中该装置展现已施加足够高偏移以除去极化影响后对偏移电压变动达+/一15伏/微米之电容更改至少5%。4﹒根据申请专利范围第1项之装置其中该电极系氧化铟锡制。5﹒根据申请专利范围第1项之装置其中该等基底之一上涂敷有排列层。6﹒根据申请专利范围第1项之装置其中该域电液晶物质经氟化。7﹒根据申请专利范围第1项之装置其中该相对基底系透明的。8﹒根据申请专利范围第1项之奖置其中该相对基底系反射的。9﹒根据申请专利范围第1项之装置其中该装置又含一种染料配置于该等基底之间,该铁电液晶物质与该染料展示宾主效应。图示简单说明图1系本发明装置介电常数与散逸因子对频率之点绘。图2与3系以往技术装置之介电常数对偏移场之点绘。图4与5系本发明装置之介电常数对偏移场之点绘。图6系实例1之光透射对外施电场之点绘。 |
