主权项 |
1.一种式(I)之化合物:在其中Ar是 唑或苯环,可选择 性经卤素,C1-6烷基,C1-6卤烷基,C1-6烷氧基取代;W 是氧;X是直接键结;R2及R3是独立选自H或C1-6烷基;R4 是CO2R8,CN,CH2OR8,CONR10R11,CONHNR10R11,CONHN +R10R11R12R13-,CO2—R14+,COON=CR10R11或 CONHSO2R8;R14+是一个农业可接受的阳离子;及R13-是 一个农业可接受的阴离子;R8,R10,R11,及R12是独立 选自H,C2-6炔基或C1-6烷基,可选择性经烷氧基或苯 基 取代1。2.根据申请专利范围第1项之化合物,在其 中Ar是一个次 一式(i):之基团,其中R16'是氢或卤素,及J是一个基 团 CR17,其中R17是氢或卤素。3.根据申请专利范围第1 项之化合物,在其中Ar是一个基 团:其中R18是氢或卤素。4.根据申请专利范围第1,2 或3项之化合物,在其中R4是 一个基团CO2R8,其中R8,是C1-6烷基。5.一种制备式(Ⅰ )之化合物之方法,该方法包括将一种式 (Ⅱ)之化合物:在其中Ar及W是根据申请专利范围第1 项中 所界定,与一种式(Ⅲ)之化合物反应:在其中X,R2,R3 ,及R4是根据申请专利范围第1项中所界定及Z是一 个离基 ;及在此之后加有需要进行以次步骤之一或多项:i) 当R4 是烷氧羰基水解成为对应酸,ii)当R4是COOH酯化或生 成 一种盐,醯胺,醯胺,醯 或 衍生物,iii)当R4是醇, 氧化成为对应酸或醛,iv)当R4是烷氧羰基,还原成为 醇 ,v)当R4是醯胺,脱水成为对应 。6.一种除草组合物, 包括一种根据申请专利范围第1项中 所界定之式(Ⅰ)之化合物与一种媒质或稀释剂组 合。7.根据申请专利范围第7项之组合物,其再包括 另一种非 式(Ⅰ)之除草剂。8.一种杀死或控制非所要的植物 生成之方法,该方法包括 施用一种根据申请专利范围第1项中所界定之式( Ⅰ)之化 合物之有效量至这些植物或其生长媒质。9.一种 式(Ⅸ)之化合物:其中Ar,W,R2,R3,R4及X是根 据申请专利范围第1项中所界定。10.一种式(Ⅹ)之 化合物:其中Ar是如申请专利范围第3项 定义之唑,W,R2,R3,R4,及X是根据申请专利范围第1 项所界定定。11.一种制备式(Ⅰ)化合物之方法,其 包括环化式(Ⅸ)化 合物:其中Ar,W,X,R2,R3及R4系如申请专利范围第1 |