发明名称 离子植入装置
摘要 一种离子植入装置,包含有:一对之扫瞄电极,用以静态地扫瞄X方向之离子束射;一个驱动单元,用以机械式的扫瞄实质上垂直于X方向之Y方向之靶标;一个扫瞄电源供应器,包括有一个信号产生器用以产生信号,该信号之波形配合从外面输入之波形资料,和包括有一个放大器用来将该信号放大然后将其输出到一对之扫瞄电极;一个多点监视器,含有一大数目之法拉第杯被配置在X方向之相同区域用以接收离子束射和用来量度束射电流;一个监视器驱动单元,用来使该多点监视器移至和移离扫瞄离子束射之放射区域;和一个控制单元,依照该多点监视器之每一个法拉第杯所量度到之束射电流,用以获得进入每一个法拉第杯之束射电流量之分布,藉以产生波形资料,使束射电流量之分布变成非常均匀,和用以将结果资料输入到该扫瞄电源供应器之信号产生器。
申请公布号 TW197823 申请公布日期 1993.01.01
申请号 TW080212543 申请日期 1990.05.10
申请人 日新电机股份有限公司 发明人 西川和宏;野上司
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号白宫企业大楼一一一二室
主权项 1.一种离子植入装置,包含有一对用以静态地扫瞄X方向之离子束射之扫瞄电板;一个驱动单元,用以保持欲被植入离子之靶标及用以机械式扫瞄实质下垂直于X方向之Y方向中之该靶标;及一个扫瞄电源供应器,其包括有一个信号产生器及一个用以放大具有一定波形之扫瞄电压至该一对扫瞄电板;该离子植入装置其特征为:该扫瞄电源供应器依据由该信号产生器对应于施予其上且被该放大器所放大之外界波形资料而产生之一定信号施予扫瞄电压;一个多点监视器,设置于该靶标及扫瞄电极之间含有相当大量配置在X方向之相同区域的法拉第杯(Faraday cups),用以接收离子束射及量度束射电流,该多点监视器由一个监视器驱动单元控制移至及移离扫瞄离子束射之放射区域;及一个控制单元,为电气式连接至该多点监视器与该扫瞄电源供应器,依照该多点监视器之每一个法拉第杯所量度之束射电流而获得进入每一个法拉第杯之束射电流量之分布,藉以补偿依据先前所获得之束射电流量分布及离子植入量分布间的相互关系而相对于离子植入量分布之束射电流量分布,产生该波形资料使补偿后之束射电流量分怖均匀,并用以将结果资料输人到该扫瞄电源供应器之信号产生器者。2.如申请专利范围第1项所述之离子植入装置,其中该驱动单元包含有一个臂,用以支持一个保持该靶标的保持器,和一个可逆向转动之马达,用以使该臂旋转,促使该靶标面对该离子束射者时,以弧形形式被扫描者。3.如本申请专利范围第1项所述之离子値入装置,另包含
地址 日本