发明名称 挡土墙之改良结构
摘要 本创作系关于一种挡土墙之改良结构,其主要系呈一倒置状Y字造形,并具有特殊之基部结构设计者,即于其上方、两侧各形成有一纵向墙面及两趬起墙基部等,其中墙面顶端系凹设有一V形卡槽,而两墙基部乃于底面最低处向下凸伸有一V字形卡块,且墙基部表面则呈一凹陷沟槽状,当本创作用于道路分隔岛、护栏时,系令各挡土墙呈前后排列状,藉沟槽作为排水沟或填土用以种植花木用途,又,当本创作使用于山坡防土墙时,系将各种土墙上下叠设而成,令各上下两相邻挡土墙之卡块、卡槽吻合卡抵,使之达到一种兼具施工简易、牢固之设计者。
申请公布号 TW203303 申请公布日期 1993.04.01
申请号 TW081217768 申请日期 1992.12.30
申请人 梁鸿谟 发明人 梁鸿谟
分类号 E02D29/02 主分类号 E02D29/02
代理机构 代理人 苏良井 台北巿重庆南路一段一二一号五楼之二十一
主权项 1﹒一种挡土墙之改良结构,其主要系由一呈倒置Y字形而其基部具有特殊结构之挡土墙所构成,其特征在于:挡土墙上方、两侧各形成有一纵向墙面及两趬起墙基部等,其中墙面顶端系凹设有一V形卡槽,而两墙基部底面之最低处均向下凸伸有一V字形卡块,而墙基部表面系形成有一凹陷沟槽,当本创作用于道路分隔岛、护栏时,系令各撑土墙呈前后排列状,藉沟槽作为排水沟或填土用以种植花木用途,又当本创作使用于山坡防土墙时,系将各挡土墙上下叠设而成,令各上下两相邻挡土墙之卡块、卡槽吻合卡抵者。2﹒如申请专利范围第1项所述之挡土墙之改良结构,其中两墙基部末端趬起处系向上设有一凸起块,各凸起块两侧均邻设有凹陷缘者。图示简单说明第一图:系习用使用于分隔岛时之实施例图。第二图:系习用使用于山坡防土墙之实施例图。第三图:系本创作挡土墙之平面外观图。第四图:系本创作使用于道路分隔岛之实施例图。第五图:系本创作挡土墙之另一实施例平面外观图。第六图:系本创作使用于山坡防土墙之实施例图。
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