| 主权项 |
1﹒一用以脱除配制料中水之湿气扫除组成物,其包括一种有机溶剂和至少一莫耳的湿气扫除化合物,(对待移除每一莫耳水而言),所该湿气清除化合物系选自一群体,包括:一种具以下结构之亚胺醇化合物:一种具以下结构之恶唑烷化合物:一种亚胺醇化合物和恶唑烷化合物之混合物,其中R1和R2系分别选自一群体,包括甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、支链或直链之烷基或羟烷基;R3.R4和R5系分别选自一群包括:氢原子、甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基;R6系为氢原子、甲基、乙基、直链或支链烷基;R7系为氢原子、甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基、环烷基、醯基或芳基。2﹒一种实质无水之组合物、其用以制备湿气可熟化之聚尿烷涂层、粘着剂或封着剂、其包括:至少一种有机溶剂;及至少一莫耳湿气扫除化合物(对待移除之每一莫耳水而言),而该湿气清除化合物系选自一群体,包括:一种具以下结构之亚胺醇化合物:一种具以下结构之恶唑烷化合物:一种亚胺醇化合物和恶唑烷化合物之混合物,其中R1和R2系分别选自一群体,包括甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、支链或直链之烷基或羟烷基;R2.R4和R5系分别选自一群包括:氢原子、甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基;R6系为氢原子、甲基、乙基、直链或支链烷基;R7系为氢原子甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基、环烷基、醯基或芳基,而该混合物中亚胺醇化合物之浓度系从0至100莫耳%;恶唑烷化合物之浓度系从0至100莫耳%。3﹒一种湿气扫除用化合物,其结构为:其中R1和R2系分别选自一群体,包括甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、支链或直链之烷基或羟烷基;R3.R4和R5系分别选自一群包括:氢原子、甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基;R6系为氢原子、甲基、乙基、直链或支链烷基;R7系为氢原子、甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基、环烷基、醯基或芳基。4﹒一种湿气扫除用化合物,其结构为:其中R1和R2系分别选自一群体、包括甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、支链或直链之烷基或羟烷基;R3.R4和R5系分别选自一群包括:氢原子、甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基;R6系为氢原子、甲基、乙基、直链或支链烷基;R7系为氢原子、甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基、环烷基、醯基或芳基。5﹒一种用以脱除配制料中水之方法,该配制料包括至少一种颜料及至少一种有机溶剂,其方法包括将配制料掺以有效量之至少一莫耳湿气扫除化合物(对待移除之每一莫耳水而言)之混合物,而该湿气扫除化合物系选自一群包括:一种其以下结构之亚胺醇化合物:一种具以下结构之恶唑烷化合物:一种亚胺醇化合物和恶唑烷化合物之混合物,其中R1和R2系分别选自一群体,包括甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、支链或直链之烷基或羟烷基;R2.R4和R5系分别选自一群包括:氢原子、甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基;R6系为氢原子、甲基、乙基、直链或支链烷基;R7系为氢原子,甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基、环烷基、醯基或芳基。6﹒一种用以脱除表面上水之方法,其包括直接混合一种有机溶剂和至少一莫耳湿气扫除化合物(以移除每莫耳水),其特征为该湿气扫除化合物系选自一群,包括:一种具以下结构之亚胺醇化合物:一种具以下结构之恶唑烷化合物:一种亚胺醇化合物和恶唑烷化合物之混合物,其中R1和R2系分别选自一群体,包括甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、支链或直链之烷基或羟烷基;R3.R4和R5系分别选自一群包括括:氢原子、甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基;R4系为氢原子、甲基、乙基、直链或支链烷基;R7系为氢原子、甲基或羟甲基、乙基或羟乙基、直链或支链之烷基或羟烷基、环烷基、醯基或芳基;及涂该配方于一表面以脱表面上之水。7﹒如申请专利范围第1或2项中任一项之组成物,其特征系为R1取代基为乙基或一种C1─C4支链或直链之烷基;R2取代基为甲基、乙基或一种C3─C5支链或直链之烷基。8﹒如申请专利范围第7项之组成物,其特征系为R3取代基和R4取代基均为氢原子;R5取代基为氢原子;R5取代基为氢原子甲基、乙基或是一种C3─C5支链或直链之烷基;R6取代基为氢原子或是甲基;R7取代基为氢原子、甲基,乙基、支链或直链之烷基、醯基或是芳基。9﹒如申请专利范围第1或2项中任一项之组成物,其特征为R1取代基是支链烷基;R2取代基是甲基;R3.R4.R5和R6都是氢原子;以及R7是乙基。10﹒如申请专利范围第1或2项中任一项之组成物,其特征为R1是3─甲基丁基;R2是甲基;R3.R4.R5和R7都是氢原子;以及R6是乙基。11﹒如申请专利范围第1或2项中任一项之组成物,其系包括1─3莫耳之该湿气扫除化合物(对配制料中待脱除之每一莫耳水而言)。12﹒如申请专利范围第1或2项中任一项之组成物,其进一步包括至少一种成份、该成份包括:颜料、有机溶剂,添充物、聚异氰酸脂以及辅助剂。13﹒如申请专利范围第3或4项中任一项之组成物,其特征在于R1是乙基或是一种C1─C6支链或直链之烷基;R2是甲基、乙基及/或一种C3─C5支链或直琏之烷基。14﹒如申请专利范围第13项之化合物,其特征在于R3和R4均为氢原子;R7是氢原子、甲基、乙基或是一种C1─C4支链或直链之烷基:R6是氢原子或是甲基;R7是氢原子、甲基、乙基、一种直链或支链之烷基、醯基或是芳基。15﹒如申请专利范围第3或4项中任一项之组成物,其特征在于R4是一种支链烷基,R1是甲基;R3.R4.R5及R7都是氢原子、R6是乙基。"16﹒如申请专利范围第3或4项中任一项之组成物,其特征式@b于R1是3─甲基丁基;R2是甲基;R3.R4.R5及R7都是瓷@B原子;R6是乙基。17﹒如申请专利范围第5或6项中任一项之组成物,其特征在于R1是乙基或一种C1─C5支链或直链之烷基;R2是甲基、乙基或一种C3─C5支链或直链之烷基。18﹒如申请专利范围第17项之方法,其特征在于R3和R4均为氢原子;R5是氢原子、甲基、乙基或是一种C3─C4支链或直链之烷基;R6是氢原子或甲基;以及R7是氢原子、甲基、乙基、直链或支链烷基、醯基或芳基。19﹒如申请专利范围第5或6项中任一项之组成物,其特征在于R1是支链烷基;R2是甲基;R3.R4.R5及R6都是氢原子;R7是乙基。20﹒如申请专利范围第5或6项中任一项之组成物,其特征在于R1是3─甲基丁基;R2是甲基;R3.R4.R5及R7都是氢原子;R6是乙基。21﹒如申请专利范围第5或6项中任一项之方法,其脱水配制料包括1─3莫耳之该湿气扫除化合物以脱除每一莫耳水。图示简单说明:图l 说明2-(1-羟基-2-羟甲丁基)(亚环己基)胺/4-乙基-4-羟甲基-l,3-恶唑烷-2-螺-l'-环己烷混合物(-.-),2-(1-羟丁基)(l-苯基-l-亚乙基 )胺/4-乙基-2-甲基-2-苯基-l,3-恶唑烷混合物(- + - ),2-(1-羟基-2-羟甲丁基)(l-苯基-l-亚乙基)胺/4-乙基-4-羟甲基-2-甲基-2-苯基-l,3-恶唑烷混合物(-*-),2-(1-羟丁基)(2-亚庚基)胺/4-乙基-2-甲基-2-戊基-l,3-恶唑烷混合物(-口-),2-(1-羟丁基)(5-甲基-2-亚己基)胺/4-乙基-2-甲基-2-(3-甲丁基)-l,3-恶唑烷混合物(-x-),2-(1-羟基-2-羟甲丁基)(5-甲基-2-亚己基)胺/4-乙基-4-羟甲基-2-甲基-2-(3-甲丁基)-1,3-恶唑烷混合物(-◇-),及2-(1-羟丁基) (2,6-二甲基-4-亚庚基)肢/2,2-(二-2-甲丙基)-4-乙基-l,3-恶唑烷混合物(--)之相对水解率;图2示2-(1-羟丁基)(亚环己基)胺/4-乙基-l,3-恶唑烷-2-螺-l'-环己烷混合物(-.-)'2-(1-羟丁基)(4-甲基-2-亚戊基)胺/4-乙基-2-甲基-2-(2-甲丙基)-l,3-恶唑烷混合物(-),2-(1-羟基-2-羟甲丁基)(4-甲基-2-亚戊基)胺/4-乙基-4-羟甲基-2-甲基-2-(2-甲丙基)-l,3-恶唑烷混合物(-+-),及2-(1-羟基-2-羟甲丁基)(2-亚庚基)胺/4-乙基-4-羟甲基-2-甲基-2-戊基-l'3-恶唑烷混合物(-口-)之相对水解率;且图3示2-(1-羟丁基)(4-甲基-2-亚戊基)胺/4-乙基-2-甲基-2-(3-甲丙基)-l'3-恶唑烷混合物(-.-),2-(1-羟丁基)(l-苯基-l-亚乙基)胺/4-乙基-2-甲基-2-苯基-l,3-恶唑烷混合物(-+-),2-(1-羟丁基)(2-亚庚基)胺/4-乙基-2-甲基-2-戊基-l,3-恶唑烷混合物(-* -).2-(1-羟丁基)(5甲基-2-亚己基)胺/4-乙基-2-甲基-2-(3-甲丁基)-l,3-恶唑烷混合物(-口-),2-(1-羟丁基)(2'6-二甲基-4-亚庚基)胺/2,2-(二-2-甲丙基)-4-乙基-l'3-恶唑烷混合物(-x-),及2_(l-羟基-2-甲丙基)(4-甲基-2-亚戊基)胺/2-(2-甲丙基)-2'4,4-三甲基-l,3-恶唑烷混合物(-|-)之相对水扫除活性。 |
