MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE,申请号JP19920357745-传众专利搜索

发明名称	MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号	JPH06196674(A)	申请公布日期	1994.07.15
申请号	JP19920357745	申请日期	1992.12.25
申请人	CANON INC	发明人	NAKAYAMA JUN
分类号	H01L21/02;H01L21/306;H01L21/3063;H01L27/12;(IPC1-7):H01L27/12	主分类号	H01L21/02
代理机构		代理人
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