发明名称 |
Apparatus for preselecting and maintaining a fixed gap between a workpiece and a vacuum seal apparatus in particle beam lithography systems. |
摘要 |
|
申请公布号 |
EP0324436(B1) |
申请公布日期 |
1994.11.09 |
申请号 |
EP19890100347 |
申请日期 |
1989.01.10 |
申请人 |
ETEC SYSTEMS, INC. |
发明人 |
YOUNG, LYDIA J.;VENEKLASEN, LEE H. |
分类号 |
H01J37/301;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/677;(IPC1-7):H01J37/317;H01L21/31;H01J37/18 |
主分类号 |
H01J37/301 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|