| 发明名称 |
MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING SILICIDE STRUCTURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR940010907(B1) |
申请公布日期 |
1994.11.19 |
| 申请号 |
KR19900019123 |
申请日期 |
1990.11.24 |
| 申请人 |
TOSHIBA CO., LTD. |
发明人 |
KUNISHIMA, IWAO;AOYAMA, TOMONORI;SUGURO, KYOICHI |
| 分类号 |
H01L29/78;H01L21/225;H01L21/28;H01L21/331;H01L21/336;H01L29/41;H01L29/43;H01L29/45;H01L29/49;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L29/78 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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